[發明專利]基于GaNHEMT工藝的單片集成有源準環形器有效
| 申請號: | 201410064240.8 | 申請日: | 2014-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN104868866B | 公開(公告)日: | 2017-12-08 |
| 發明(設計)人: | 車文荃;顧黎明;蔡奇;陳海東;馮文杰 | 申請(專利權)人: | 南京理工大學 |
| 主分類號: | H03F3/195 | 分類號: | H03F3/195;H03F3/24;H01P1/38 |
| 代理公司: | 南京理工大學專利中心32203 | 代理人: | 朱顯國 |
| 地址: | 210094 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 gan hemt 工藝 單片 集成 有源 環形 | ||
1.一種基于GaN HEMT工藝的單片集成有源準環形器,其特征在于,包括順次相連的發射支路功率放大器(1)、集總式功分器(2)和接收支路功率放大器(3),該三個電路均采用AlGaN/GaN HEMT工藝加工于一個單片上;
所述發射支路功率放大器(1)從發射端口開始包括順次連接的第一輸入匹配電路(4)、第一穩定電路(5)、第一氮化鎵晶體管GaN HEMT1和第一輸出匹配電路(6):其中第一穩定電路(5)的輸出端與第一氮化鎵晶體管GaN HEMT1的柵極連接,且第一穩定電路(5)與第一氮化鎵晶體管GaN HEMT1柵極的公共端通過第一柵極偏置電阻Rgg1與第一柵極偏壓輸入端Vgg1相連;第一氮化鎵晶體管GaN HEMT1的源極接地;第一氮化鎵晶體管GaN HEMT1的漏極與第一漏極偏壓輸入端Vdd1相連,且第一氮化鎵晶體管GaN HEMT1的漏極與第一漏極偏壓輸入端Vdd1的公共端與第一輸出匹配電路(6)的輸入端連接;所述第一輸出匹配電路(6)的輸出端與集總式功分器(2)的第一功分端口J1相連;所述集總式功分器(2)的合成端口即為天線端口;
所述接收支路功率放大器(3)的結構與發射支路功率放大器(1)相同,從集總式功分器(2)的第二功分端口J2開始包括順次連接的第二輸入匹配電路(7)、第二穩定電路(8)、第二氮化鎵晶體管GaN HEMT2和第二輸出匹配電路(9):其中第二穩定電路(8)的輸出端與第二氮化鎵晶體管GaN HEMT2的柵極連接,且第二穩定電路(8)與第二氮化鎵晶體管GaN HEMT2柵極的公共端通過第二柵極偏置電阻Rgg2與第二柵極偏壓輸入端Vgg2相連;第二氮化鎵晶體管GaN HEMT2的源極接地;第二氮化鎵晶體管GaN HEMT2的漏極與第二漏極偏壓輸入端Vdd2相連,且第二氮化鎵晶體管GaN HEMT2的漏極與第二漏極偏壓輸入端Vdd2的公共端與第二輸出匹配電路(9)的輸入端連接;所述第二輸出匹配電路(9)的輸出端接入接收端口。
2.根據權利要求1所述的基于GaN HEMT工藝的單片集成有源準環形器,其特征在于,所述第一輸入匹配電路(4)包括第一電感L1、第二電感L2、第一電容C1,其中第一電感L1的一端與發射端口相連,第一電感L1的另一端與第二電感L2的一端連接,第二電感L2的另一端接地,第一電感L1與第二電感L2的公共端與第一電容C1的一端連接,第一電容C1的另一端與第一穩定電路(5)的輸入端相連。
3.根據權利要求1所述的基于GaN HEMT工藝的單片集成有源準環形器,其特征在于,所述第一穩定電路(5)包括并聯的第一電阻R1和第二電容C2,第一電阻R1和第二電容C2的一個公共端與第一輸入匹配電路(4)中的第一電容C1連接,另一個公共端與第一氮化鎵晶體管GaN HEMT1的柵極連接。
4.根據權利要求1所述的基于GaN HEMT工藝的單片集成有源準環形器,其特征在于,所述第一輸出匹配電路(6)包括第三電感L3、第三電容C3和第四電容C4,其中第三電感L3的一端與第一氮化鎵晶體管GaN HEMT1的漏極連接,第三電感L3的另一端與第三電容C3的一端相連接,第三電容C3的另一端接地,第三電感L3與第三電容C3的公共端與第四電容C4的一端連接,第四電容C4的另一端與集總式功分器(2)的第一功分端口J1連接。
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