[發明專利]一種納米防紫外線隔熱涂膜玻璃及其生產方法有效
| 申請號: | 201410063184.6 | 申請日: | 2014-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN103803810A | 公開(公告)日: | 2014-05-21 |
| 發明(設計)人: | 劉成軍 | 申請(專利權)人: | 上海岑興實業有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/23 | 分類號: | C03C17/23 |
| 代理公司: | 上海世貿專利代理有限責任公司 31128 | 代理人: | 嚴新德 |
| 地址: | 201715 上海市青浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 納米 紫外線 隔熱 玻璃 及其 生產 方法 | ||
技術領域:
本發明涉及分離和混合技術領域,尤其涉及對玻璃進行涂膜加工的技術,特別是一種納米防紫外線隔熱涂膜玻璃及其生產方法。
背景技術:
現有技術中,隔熱玻璃如鍍膜玻璃、LOW-E在線玻璃和LOW-E離線玻璃廣泛應用在建筑物和車輛的節能隔熱措施中。隔熱玻璃包括玻璃、電介質層、保護層和銀層,其中銀層可以反射太陽光中的紅外線,起到主要的隔熱作用。但是銀層會造成光污染,并降低可見光通過率,影響采光,并且材料價格昂貴且在空氣中極易氧化受腐蝕,壽命短暫。雖然可以在表面再濺射一層氧化鈦,來保證其在空氣中的穩定性,但其內部還是有一層銀,光污染和可見光通過率低的問題仍然存在。此外,鍍膜材料在液體狀態時存在氣泡,采用噴涂工藝時需要添加消泡劑來消除氣泡,但是消泡劑會影響鍍膜材料的成分指標。采用刮涂工藝時會留有刮印,接頭處有明顯的痕跡,色差明顯。采用淋涂工藝時會出現上薄下厚、技術指標不平均和色差等問題
發明內容:
本發明提供了一種納米防紫外線隔熱涂膜玻璃,所述的這種納米防紫外線隔熱涂膜玻璃要解決現有技術中隔熱玻璃光污染、可見光通過率低、鍍膜材料中消泡劑影響鍍膜材料的成分指標、膜成型效果不理想的技術問題。
本發明的這種納米防紫外線隔熱涂膜玻璃包括一塊玻璃板,其中,所述的玻璃板的表面覆蓋有一層氧化錫銻膜,所述的氧化錫銻膜的厚度在7-10um之間,所述的氧化錫銻膜中分布有復數個氧化錫銻顆粒,任意一個所述的氧化錫銻顆粒的直徑均在1~100納米之間。
本發明還提供了一種生產上述納米防紫外線隔熱涂膜玻璃的方法,所述的這種方法包括一個在玻璃板上形成氧化錫銻膜的過程和一個將氧化錫銻顆粒分散在水體中的步驟,所述的氧化錫銻顆粒的直徑在1~100納米之間,其中,在所述的在玻璃板上形成氧化錫銻膜的過程中,利用玻璃洗片機對玻璃板進行清洗并對清洗后的玻璃板進行烘干,在對玻璃板的清洗過程中,去除玻璃板上附著的油脂,利用一個液體循環過濾加熱裝置對含有氧化錫銻顆粒的水體進行過濾和加熱,同時利用熱紅外熱風發生器對含有氧化錫銻顆粒的水體吹熱風直至消除其中的氣泡,將清洗烘干后的玻璃板勻速通過一個平面淋涂裝置的涂布口的下方,利用所述的平面淋涂裝置將含有氧化錫銻顆粒的水體形成液體幕后涂布到玻璃板上,然后利用溫控紅外線照射箱對玻璃板及含有氧化錫銻顆粒的水體進行紅外線照射,最后對玻璃板進行冷卻。
進一步的,在所述的溫控紅外線照射箱中按玻璃板的加熱時間的先后設置第一個第一加熱段、一個第二加熱段和一個第三加熱段,所述的第一加熱段的溫度控制在130~150攝氏度之間,所述的第二加熱段的溫度控制在140~160攝氏度之間,所述的第三加熱段的溫度控制在140~150攝氏度之間。
進一步的,在對玻璃板的清洗過程中,在清洗液中加入稀土氧化物。
本發明和已有技術相比較,其效果是積極和明顯的。本發明利用顆粒直徑在1~100納米之間的氧化錫銻在玻璃表面阻隔紅外線和紫外線,可實現隔熱效果,同時,顆粒直徑在1~100納米之間的氧化錫銻不會阻隔太陽光中的380-780nm之間的波段及可見光,所以不影響室內采光,令室、內外景觀清晰,不影響建筑美觀。通過本發明中的生產方法將氧化錫銻涂布到玻璃表面,操作簡單,便捷實用,附著力強,力學性能好,可有效延緩玻璃破碎脫落時間,防止濺傷人群,保護人身安全,膜層不阻隔室內手機、無線網卡等電子設備信號,保障通信暢通無阻,不影響正常通訊,產品原料采用水、醇等環保溶劑,生產、施工、使用過程中對人體和環境無害,施工成膜后永不起泡,不變形收縮,不易剝落,不易脫色,不易氧化,生產設備相對簡單,噪音低,安全,便于操作,不污染環境。
附圖說明:
圖1是本發明的納米防紫外線隔熱涂膜玻璃的結構示意圖。
圖2是本發明的一個實施例中對玻璃進行涂膜加工處理的裝置的示意圖。
圖3是圖2所示的裝置中的平面淋涂裝置的示意圖
圖4是圖2所示的裝置中的平面淋涂裝置的工作狀態示意圖。
具體實施方式:
實施例1:
如圖1所示,本發明的納米防紫外線隔熱涂膜玻璃包括一塊玻璃板6,其中,所述的玻璃板6的表面覆蓋有一層氧化錫銻膜8,所述的氧化錫銻膜8的厚度在7-10um之間,所述的氧化錫銻膜8中分布有復數個氧化錫銻顆粒,任意一個所述的氧化錫銻顆粒的直徑均在1~100納米之間。
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