[發(fā)明專利]基于動(dòng)態(tài)干涉儀的實(shí)時(shí)研磨拋光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410062878.8
• 申請(qǐng)日: 2014-02-25
• 公開（公告）號(hào): CN103862373A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何曉穎;徐敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 復(fù)旦大學(xué)
• 主分類號(hào): B24B49/04
• 分類號(hào): B24B49/04
• 代理公司: 上海正旦專利代理有限公司 31200
• 代理人: 陸飛;王潔平

1.一種基于動(dòng)態(tài)干涉儀的實(shí)時(shí)研磨拋光方法，其特征在于：其采用包括工業(yè)機(jī)器人及其驅(qū)動(dòng)控制系統(tǒng)，工件平臺(tái)，拋光組件，拋光液注入/沖洗/吹干系統(tǒng)，動(dòng)態(tài)干涉儀，數(shù)據(jù)采集/分析系統(tǒng)和人機(jī)交互界面的裝置進(jìn)行實(shí)時(shí)研磨拋光；其中所述的工業(yè)機(jī)器人具有六個(gè)軸，通過(guò)其驅(qū)動(dòng)控制系統(tǒng)控制其在空間的位姿；所述的動(dòng)態(tài)干涉儀放置于拋光組件前端，所述數(shù)據(jù)采集/分析系統(tǒng)與所述的干涉儀相連接；具體步驟如下：

（1）根據(jù)工件在工件臺(tái)上的擺放位置坐標(biāo)、待測(cè)曲面的方程和動(dòng)態(tài)干涉儀在不同測(cè)量距離所對(duì)應(yīng)的測(cè)量孔徑尺寸，利用軟件分析出對(duì)曲面進(jìn)行拋光/研磨時(shí)，動(dòng)態(tài)干涉儀所需要測(cè)量的孔徑的數(shù)目、尺寸、位置以及運(yùn)動(dòng)路徑；

（2）工業(yè)機(jī)器人的驅(qū)動(dòng)與控制系統(tǒng)控制拋光組件或干涉儀按照根據(jù)上述軟件分析結(jié)果設(shè)定的測(cè)量路徑對(duì)待測(cè)曲面逐個(gè)進(jìn)行子孔徑的測(cè)量與加工，并用測(cè)量的面形數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)確定在測(cè)量子孔徑內(nèi)的滯留時(shí)間和磨頭的運(yùn)動(dòng)軌跡；?

（3）在利用拋光液注入/沖洗/吹干系統(tǒng)對(duì)測(cè)量孔徑范圍內(nèi)的面形沖洗吹干后，工業(yè)機(jī)器人根據(jù)動(dòng)態(tài)干涉儀實(shí)時(shí)反饋給工業(yè)機(jī)器人的驅(qū)動(dòng)控制系統(tǒng)打磨/拋光頭在測(cè)量孔徑內(nèi)所需滯留時(shí)間和運(yùn)動(dòng)軌跡，以及工件臺(tái)需配合的移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)，再對(duì)測(cè)量孔徑范圍內(nèi)的工件表面進(jìn)行拋光/研磨；

（4）當(dāng)走完上述完整的運(yùn)動(dòng)路徑后，即完成了一次對(duì)整個(gè)工件表面的拋光/研磨，數(shù)據(jù)采集/分析系統(tǒng)。

2.如權(quán)利要求1所述的基于動(dòng)態(tài)干涉儀的實(shí)時(shí)研磨拋光方法，其特征在于：工業(yè)機(jī)器人每次完成孔徑加工后，對(duì)加工區(qū)域進(jìn)行沖洗和吹干處理。