[發(fā)明專利]一種鍍膜方法、鍍膜裝置和鍍膜生成系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410062173.6
• 申請(qǐng)日: 2014-02-24
• 公開（公告）號(hào): CN103866260B
• 公開（公告）日: 2017-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 艾青南;潘夢(mèng)霄;周賀;李躍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/00
• 分類號(hào): C23C16/00;G01B11/06
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112
• 代理人: 彭瑞欣,陳源

1.一種鍍膜方法，對(duì)置于鍍膜腔室內(nèi)載臺(tái)上的待鍍基板進(jìn)行鍍膜，其特征在于，所述方法包括：采集所述腔室內(nèi)壁上的鍍膜厚度數(shù)據(jù)；對(duì)所述鍍膜厚度數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，以獲取所述腔室內(nèi)壁上的膜層的厚度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜方法，其特征在于，所述腔室內(nèi)環(huán)繞所述載臺(tái)的內(nèi)壁上設(shè)置有遮擋板，所述遮擋板上表面設(shè)置有采樣塊；所述采集所述腔室內(nèi)壁上的鍍膜厚度數(shù)據(jù)包括：采用光反射法采集所述遮擋板上表面的采樣塊的所述鍍膜厚度數(shù)據(jù)，具體包括：光線照射到所述遮擋板上；采集從所述采樣塊上反射回來的光線；對(duì)反射光線進(jìn)行分光并獲取反射光譜；將所述反射光譜轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜方法，其特征在于，所述對(duì)所述鍍膜厚度數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，以獲取所述腔室內(nèi)壁上的膜層的厚度包括：將所述模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號(hào)；根據(jù)所述數(shù)字電信號(hào)計(jì)算獲得所述膜層的厚度。

4.一種鍍膜裝置，用于對(duì)待鍍基板進(jìn)行鍍膜，所述鍍膜裝置包括腔室，所述腔室的底部設(shè)置有用于承載所述待鍍基板的載臺(tái)，其特征在于，所述鍍膜裝置還包括膜厚測(cè)量機(jī)構(gòu)，所述膜厚測(cè)量機(jī)構(gòu)包括測(cè)量單元和處理單元，所述測(cè)量單元與所述腔室相連，所述測(cè)量單元用于采集所述腔室內(nèi)壁上的鍍膜厚度數(shù)據(jù)，所述鍍膜厚度數(shù)據(jù)傳送至所述處理單元，并經(jīng)所述處理單元處理以獲取所述腔室內(nèi)壁上膜層的厚度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述腔室環(huán)繞所述載臺(tái)的內(nèi)壁上設(shè)置有遮擋板，所述遮擋板上表面設(shè)置有采樣塊，所述測(cè)量單元包括光源、分光元件和光采集模塊；所述分光元件與所述采樣塊相對(duì)設(shè)置，所述光源發(fā)出的光線通過所述分光元件照射到所述采樣塊上；所述分光元件用于將從所述采樣塊反射回來的光線進(jìn)行分光并獲得反射光譜；所述光采集模塊用于采集所述反射光譜，并將所述反射光譜轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào)；所述處理單元用于對(duì)所述模擬電信號(hào)進(jìn)行處理以獲得所述膜層的厚度。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述采樣塊采用透明玻璃制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述分光元件與所述光采集模塊連接為一體，所述分光元件貫穿于所述腔室側(cè)壁中且所述分光元件的自由端延伸至所述腔室內(nèi)，所述分光元件的光線透出面設(shè)置在所述自由端的端部，所述光線透出面與所述采樣塊的上表面平行且相對(duì)；所述分光元件貫穿于所述腔室側(cè)壁中的殼體與所述腔室側(cè)壁密封結(jié)合。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述處理單元包括模/數(shù)轉(zhuǎn)換模塊和計(jì)算模塊，所述模/數(shù)轉(zhuǎn)換模塊分別與所述光采集模塊和所述計(jì)算模塊電連接，所述模/數(shù)轉(zhuǎn)換模塊用于將所述模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號(hào)；所述計(jì)算模塊用于根據(jù)所述數(shù)字電信號(hào)計(jì)算獲得所述膜層的厚度。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜裝置還包括控制模塊和清潔機(jī)構(gòu)，所述清潔機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述腔室的入口處，所述控制模塊和所述清潔機(jī)構(gòu)與所述計(jì)算模塊電連接，所述控制模塊用于根據(jù)所述計(jì)算模塊計(jì)算獲得的所述膜層的厚度，控制所述清潔機(jī)構(gòu)的啟動(dòng)或關(guān)閉。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述計(jì)算模塊中預(yù)設(shè)有參考厚度值和極限厚度值，當(dāng)所述計(jì)算模塊計(jì)算獲得的所述膜層的厚度大于等于所述參考厚度值時(shí)，則所述控制模塊控制所述清潔機(jī)構(gòu)作業(yè)；其中，所述參考厚度值小于所述腔室內(nèi)壁上膜層的所述極限厚度值。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述測(cè)量單元用于在所述鍍膜裝置完成一次鍍膜程序、且所述腔室內(nèi)無所述待鍍基板時(shí)采集所述腔室內(nèi)壁上的所述鍍膜厚度數(shù)據(jù)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜裝置還包括提醒模塊和檢測(cè)模塊，所述檢測(cè)模塊設(shè)置在所述腔室內(nèi)，所述提醒模塊和所述檢測(cè)模塊與所述控制模塊電連接；所述檢測(cè)模塊用于間隔一段時(shí)間檢測(cè)所述腔室內(nèi)壁上是否清潔完畢，所述控制模塊還用于根據(jù)所述檢測(cè)模塊的檢測(cè)結(jié)果，控制所述提醒模塊的啟動(dòng)或關(guān)閉。

13.根據(jù)權(quán)利要求5-12任意一項(xiàng)所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述測(cè)量單元還包括波長(zhǎng)過濾元件，所述波長(zhǎng)過濾元件設(shè)置在所述光源與所述分光元件之間，所述波長(zhǎng)過濾元件用于將所述光源發(fā)出的光線過濾為不同波長(zhǎng)的光；所述遮擋板與所述載臺(tái)的頂面平行。

14.一種鍍膜生成系統(tǒng)，其特征在于，包括權(quán)利要求4-13任意一項(xiàng)所述的鍍膜裝置。