[發(fā)明專利]光學(xué)單元、成像設(shè)備、電子裝置及母版

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410060936.3
• 申請(qǐng)日: 2014-02-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104020516A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梶谷俊一;田澤洋志;坪里惠;林部和彌;田中洋志;谷田部透
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號(hào): G02B1/11
• 分類號(hào): G02B1/11;G03F1/46
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

1.一種具有防反射功能的光學(xué)單元，包括：

波形面，所述波形面的波長(zhǎng)等于或短于可見(jiàn)光波長(zhǎng)，所述波形面具有以凹形在所述波形面的頂部與底部之間彎曲的曲面，

其中，通過(guò)在垂直于所述波形面的振動(dòng)方向的平面內(nèi)切割所述波形面而獲得的截面面積的拐點(diǎn)位于從所述振動(dòng)的中心朝向所述波形面的所述底部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)單元，其中，從所述波形面的所述振動(dòng)的最大位置到a/10距離的位置的范圍內(nèi)的所述波形面的體積va和從所述波形面的所述振動(dòng)的最小位置到a/10距離的位置范圍內(nèi)的所述波形面的體積vb滿足由va<vb表示的關(guān)系，其中，a是所述波形面的幅值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)單元，其中，所述體積va與從所述波形面的所述振動(dòng)的所述最小位置到所述最大位置的范圍內(nèi)的所述波形面的體積V的比（va/V）×100%是10%或更低。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)單元，其中，所述波形面的波長(zhǎng)和幅值是130nm或更長(zhǎng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)單元，其中，通過(guò)在與所述波形面的所述振動(dòng)方向平行的平面內(nèi)切割所述波形面而得到的截面形狀從所述頂部至所述底部具有平緩的梯度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)單元，其中，所述波形面包括以節(jié)距等于或短于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)而設(shè)置的多個(gè)凹坑。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)單元，其中，所述波形面的幅值為400nm或更短。

8.一種掩模，包括：

波形面，所述波形面的波長(zhǎng)等于或短于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)，所述波形面具有以凸形在所述波形面的頂部和底部之間彎曲的曲面，

其中，通過(guò)在垂直于所述波形面的振動(dòng)方向的平面內(nèi)切割所述波形面而獲得的截面面積的拐點(diǎn)位于從所述振動(dòng)的中心朝向所述波形面的所述頂部。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩模，進(jìn)一步包括：

具有第一波形面的本體；以及

具有設(shè)置在所述第一波形面上的第二波形面的表面層，

其中，所述第二波形面具有等于或短于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)的波長(zhǎng)，并被設(shè)置為使得所述第二波形面的形狀類似于所述第一波形面的形狀。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模，其中，所述第二波形面的幅值比所述第一波形面的幅值更長(zhǎng)。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模，其中，所述表面層包括無(wú)機(jī)材料。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的掩模，其中，所述無(wú)機(jī)材料包括電介質(zhì)、透明導(dǎo)體、金屬或半導(dǎo)體。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模，其中，所述本體包括有機(jī)材料。

14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模，其中，在所述波形面的所述振動(dòng)的最大位置處的所述表面層的厚度是10nm或更大。

15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩模，其中，所述波形面包括以節(jié)距等于或短于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)而設(shè)置的多個(gè)結(jié)構(gòu)體。

16.一種成像設(shè)備，包括：

光學(xué)系統(tǒng)，包括具有防反射功能的光學(xué)單元，

所述光學(xué)單元包括

波形面，所述波形面的波長(zhǎng)等于或短于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)，所述波形面具有以凹形在所述波形面的頂部和底部之間彎曲的曲面，

其中，通過(guò)在垂直于所述波形面的振動(dòng)方向的平面內(nèi)切割所述波形面而獲得的截面面積的拐點(diǎn)位于從所述振動(dòng)的中心朝向所述波形面的底部。

17.一種電子裝置，包括：

顯示設(shè)備，包括具有防反射功能的光學(xué)單元，

所述光學(xué)單元包括

波形面，所述波形面的波長(zhǎng)等于或短于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)，所述波形面具有以凹形在所述波形面的頂部和底部之間彎曲的曲面，

其中，通過(guò)在垂直于所述波形面的振動(dòng)方向的平面內(nèi)切割所述波形面而獲得的截面面積的拐點(diǎn)位于從所述振動(dòng)的中心朝向所述波形面的底部。