[發明專利]復合涂層活塞桿及其制造方法有效
| 申請號: | 201410060422.8 | 申請日: | 2014-02-21 |
| 公開(公告)號: | CN103775634A | 公開(公告)日: | 2014-05-07 |
| 發明(設計)人: | 鄢強;梁政;吳濤;吳俊;李斌 | 申請(專利權)人: | 四川金星壓縮機制造有限公司;西南石油大學;四川金星石油化工機械設備有限公司;四川亞連金星特種設備有限責任公司 |
| 主分類號: | F16J7/00 | 分類號: | F16J7/00;C23F17/00;C23C8/00;C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司: | 成都虹橋專利事務所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 劉世平 |
| 地址: | 610036 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 復合 涂層 活塞桿 及其 制造 方法 | ||
1.復合涂層活塞桿,包括活塞桿主體(1),其特征在于:活塞桿主體(1)表面為滲氮層(2),滲氮層(2)外附著有復合涂層(3),復合涂層(3)從內向外依次為金屬底層(4)、硬質涂層(5)和固體潤滑表層(6);金屬底層(4)為Ti或Cr層;硬質涂層(5)為硬度為20GPa-50GPa,表面摩擦系數為0.2-0.5的金屬氮化物或金屬碳氮化物層;固體潤滑表層(6)為類金剛石碳涂層、MoS2層或WS2層中的一種。
2.根據權利1所述的復合涂層活塞桿,其特征在于:金屬底層(4)厚度為100nm-200nm。
3.根據權利2所述的復合涂層活塞桿,其特征在于:硬質涂層(5)厚度為2μm-5μm。
4.根據權利3所述的復合涂層活塞桿,其特征在于:硬質涂層(5)包括多層成分不同的金屬氮化物或金屬碳氮化物。
5.根據權利4所述的復合涂層活塞桿,其特征在于:固體潤滑表層(6)為厚度為80nm-120nm。
6.根據權利5所述的復合涂層活塞桿,其特征在于:活塞桿主體(1)材料為38CrMoAlA。
7.復合涂層活塞桿制造方法,其特征在于包括如下步驟:
A、依次進行下料、鍛造、正火、粗車、調質、精車和精磨工序,完成活塞桿主體(1)形狀的加工;
B、對活塞桿主體(1)進行滲氮處理,使活塞桿主體(1)表面形成滲氮層(2);
C、采用氣相沉積法使滲氮層(2)表面附著厚度為100nm-200nm的金屬底層(4),金屬底層(4)為Ti或Cr層;
D、采用氣相沉積法使金屬底層(4)表面附著厚度為2μm-5μm的硬質涂層(5),硬質涂層(5)包括一層硬度為20GPa-50GPa,表面摩擦系數為0.2-0.5的金屬氮化物或金屬碳氮化物層,或者多層成分不同的硬度為20GPa-50GPa,表面摩擦系數為0.2-0.5的金屬氮化物或金屬碳氮化物層;
E、采用氣相沉積法使硬質涂層(5)表面附著厚度為80nm-120nm的固體潤滑表層(6),固體潤滑表層(6)為類金剛石碳涂層、MoS2層或WS2層中的一種。
8.根據權利要求7所述的復合涂層活塞桿制造方法,其特征在于:步驟B中,滲氮處理方法為等離子滲氮、氣體滲氮或QPQ技術中的一種,滲氮溫度為500℃-550℃的,滲氮層(2)硬度大于HV1100。
9.根據權利要求8所述的復合涂層活塞桿制造方法,其特征在于:步驟C至E中,氣相沉積法為離子鍍,在同一離子鍍設備中進行;
步驟C包括以下步驟:
C1、將活塞桿主體(1)裝入離子鍍設備的工件旋轉設備上;
C2、抽真空至本底真空≥2×10-2Pa;真空室加熱溫度至300℃,并保持恒溫1h以上;
C3、通入高純Ar氣,使真空度保持在約6Pa,開啟脈沖偏壓電源,逐步升高偏壓至1KV以上,占空比80%,輔助開啟霍爾離子源,進行等離子體輝光清洗10min以上;
C4、開啟工件轉動機構,調節高純Ar氣流量,使真空度保持在約2×10-1Pa,開啟脈沖偏壓電源,偏壓電源參數為800V,80%;開啟電弧源,電弧源弧流為130A,觸發高純Ti靶,對桿體進行高能離子流轟擊清洗5min以上;
C5、調節高純Ar氣流量,使真空度保持在3-5×10-1Pa,降低脈沖偏壓至參數500V,30%,直至沉積的金屬底層(4)厚度為100nm-200nm;
步驟D具體為:開啟電弧源,電弧源弧流為130A,觸發高純Cr靶,通入高純N2氣,調節Ar/N2比例,保持真空度為1Pa,沉積CrN層1μm-4μm;關閉Cr靶弧源,沉積TiN層0.8μm-1μm;
步驟E具體為:關閉Ti靶弧源,關閉高純N2氣,調節高純Ar氣流量,使真空室保在3-5×10-1Pa,開啟磁過濾陰極石墨弧源,沉積類金剛石碳涂層約80nm-120nm;依次關閉石墨弧源,脈沖偏壓電源,高純Ar氣,加熱,工件轉動,停止抽真空,等待真空爐內溫度冷卻至60℃以下或至環境溫度。
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