[發明專利]一種掩模板、曝光方法和曝光設備

有效

• 申請號: 201410059795.3
• 申請日: 2014-02-21
• 公開（公告）號: CN103885296A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 馬群;張琨鵬
• 申請（專利權）人: 鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B3/00
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

1.一種掩模板，包括基板，所述基板包括透光圖案和不透光圖案，其特征在于，還包括光線匯聚擴散單元，所述光線匯聚擴散單元與所述透光圖案相對應設置，用于使入射至所述透光圖案區域的入射光線經過匯聚擴散之后，出射光線的傳播方向和照射范圍與所述入射光線相同。

2.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述光線匯聚擴散單元包括光線匯聚單元和光線擴散單元，所述光線匯聚單元和所述光線擴散單元分別設置在所述基板的相對兩板面上，且所述光線匯聚單元和所述光線擴散單元在所述基板的正投影方向上完全覆蓋所述透光圖案。

3.根據權利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述光線匯聚單元包括第一微透鏡，所述光線擴散單元包括第二微透鏡，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡均為凸透鏡，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡的主光軸位于同一直線上且垂直于所述基板，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡的焦距之和等于所述第一微透鏡和所述第二微透鏡的光心之間的距離。

4.根據權利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述透光圖案的形狀為圓形、矩形或正多邊形，所述透光圖案的中心點位于所述第一微透鏡和所述第二微透鏡的主光軸上。

5.根據權利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡的焦距相同，且其焦距等于所述基板的厚度的一半。

6.根據權利要求3-5任意一項所述的掩模板，其特征在于，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡采用光刻膠熱熔法形成，且所述第一微透鏡和所述第二微透鏡采用線性酚醛樹脂材料制成。

7.一種曝光方法，其特征在于，包括：使入射光線透過如權利要求1所述掩模板中的透光圖案，對被曝光物進行曝光以形成目標圖案，入射至所述透光圖案區域的所述入射光線經過光線匯聚擴散單元處理后，出射光線的傳播方向和照射范圍與所述入射光線相同。

8.根據權利要求7所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光方法具體包括：

使所述入射光線經過光線匯聚單元進行匯聚；

使發生匯聚的所述入射光線經光線擴散單元擴散為傳播方向和照射范圍均與所述入射光線相同的所述出射光線。

9.根據權利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述光線匯聚單元包括第一微透鏡，所述光線擴散單元包括第二微透鏡，所述第一微透鏡和所述第二微透鏡均為凸透鏡；

使所述入射光線經過所述第一微透鏡，匯聚到所述掩模板內且對應著所述透光圖案區域的所述第一微透鏡的焦點；匯聚的所述入射光線從所述焦點射出，并經所述第二微透鏡擴散為所述出射光線。

10.根據權利要求9所述的曝光方法，其特征在于，所述入射光線和所述出射光線均為平行光，且其傳播方向平行于所述第一微透鏡和所述第二微透鏡的主光軸。

11.一種曝光設備，其特征在于，包括權利要求1-6任意一項所述的掩模板。