[發明專利]一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201410058912.4
• 申請日: 2014-02-20
• 公開（公告）號: CN103838025A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 徐傳祥;舒適;齊永蓮;張鋒
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G03F7/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上形成薄膜晶體管；

在形成有所述薄膜晶體管的襯底基板上形成彩色樹脂層；

在所述彩色樹脂層上形成具有遮光作用的第一光阻層，該第一光阻層的光刻分辨率大于所述彩色樹脂層的光刻分辨率；

對所述第一光阻層和彩色樹脂層進行構圖工藝在所述彩色樹脂層上形成過孔。

2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，形成所述過孔之后，還包括：

在形成有所述過孔的彩色樹脂層上形成像素電極，所述像素電極通過對應的過孔與所述薄膜晶體管的漏電極相連。

3.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在襯底基板上形成所述彩色樹脂層之后，形成所述第一光阻層之前，還包括：

在形成有所述薄膜晶體管和彩色樹脂層的襯底基板上形成可被剝離液剝離的第二光阻層。

4.根據權利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述第一光阻層為黑色樹脂層，所述第二光阻層為光刻膠層。

5.根據權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述光刻膠層為負性光刻膠層。

6.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，在所述彩色樹脂層上形成所述過孔之后，形成所述像素電極之前，還包括:

采用剝離液分離所述光刻膠層和彩色樹脂層。

7.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，先后對所述第一光阻層和彩色樹脂層進行構圖工藝在所述彩色樹脂層上形成過孔，具體為：

在所述第一光阻層上放置掩模板，第一光阻層上待形成過孔的區域對應掩模板的不透光區域，其余區域對應掩模板的透光區域；對所述第一光阻層進行曝光，先后對所述第一光阻層和彩色樹脂層進行顯影，第一光阻層和彩色樹脂層上與所述待形成的過孔對應的區域被顯影掉，形成貫穿所述第一光阻層和彩色樹脂層的過孔。

8.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，先后對所述第一光阻層和彩色樹脂層進行構圖工藝在所述彩色樹脂層上形成過孔，具體為：

在所述黑色樹脂層上放置掩模板，黑色樹脂層上待形成過孔的區域對應掩模板的不透光區域，其余區域對應掩模板的透光區域；

對所述黑色樹脂層和光刻膠層進行曝光，先后對所述黑色樹脂層、光刻膠層和彩色樹脂層進行顯影直到所述黑色樹脂層、光刻膠層和彩色樹脂層上與所述待形成的過孔對應的區域被顯影掉，形成貫穿所述黑色樹脂層、光刻膠層和彩色樹脂層的過孔。

9.一種陣列基板，其特征在于，采用權利要求1-8任一所述的陣列基板的制作方法制作而成。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求9所述的陣列基板。