[發明專利]噴嘴清潔裝置、涂布裝置、噴嘴清潔方法以及涂布方法

有效

• 申請號: 201410058418.8
• 申請日: 2014-02-20
• 公開（公告）號: CN104043553B
• 公開（公告）日: 2017-04-19
• 發明（設計）人: 高木善則;大森雅文;岡田広司
• 申請（專利權）人: 斯克林集團公司
• 主分類號: B05B15/02
• 分類號: B05B15/02;B05C5/02;B05D1/02;B08B1/00;B08B3/08;B08B7/04
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司11205
• 代理人: 張洋

1.一種噴嘴清潔裝置，對從狹縫狀的開口噴出涂布液的狹縫噴嘴實施清潔處理；其特征在于包括：

去除元件，具有滑動接觸于所述狹縫噴嘴的滑動接觸面，且使用所述滑動接觸面來去除附著在所述狹縫噴嘴的附著物；

支撐元件，支撐所述去除元件；

驅動元件，通過驅動所述支撐元件而使所述去除元件沿著所述狹縫噴嘴的開口部滑動，并將所述支撐元件從位于狹縫噴嘴的一側端部的外側的去除前待機位置沿所述狹縫噴嘴的長度方向移動至位于狹縫噴嘴的另一側端部的外側的所述去除元件的清潔位置；

密閉元件，配置在所述清潔位置上，并在狹縫噴嘴的另一側端部的外側形成規定的密閉空間，且將所述去除元件、所述支撐元件、以及所述驅動元件中的至少所述去除元件的所述滑動接觸面密閉在所述密閉空間內，而在所述清潔位置將所述去除元件從狹縫噴嘴隔離；

清潔元件，具有在所述密閉空間的內部開設的供給口，且從所述供給口對所述去除元件供給清潔液；以及

排出元件，具有在所述密閉空間的內部開設的排出口，且將所述密閉空間內的氣液從所述裝置排出。

2.根據權利要求1所述的噴嘴清潔裝置，其特征在于：

所述驅動元件存在于所述密閉元件形成的所述密閉空間外，且

所述支撐元件作為構成所述密閉元件的一部分而形成所述密閉空間。

3.根據權利要求2所述的噴嘴清潔裝置，其特征在于：

所述支撐元件是在水平面觀察下與所述驅動元件隔開的位置支撐所述去除元件的中空構造的支撐元件，且

在所述密閉空間中形成在所述支撐元件上方的空間區域即上方空間區域、與形成在所述支撐元件下方的空間區域即下方空間區域中，于所述上方空間區域開設所述供給口。

4.根據權利要求3所述的噴嘴清潔裝置，其特征在于：

所述排出口開設在所述下方空間區域。

5.根據權利要求1所述的噴嘴清潔裝置，其特征在于：

所述清潔液是將溶劑與氣體混合而形成的雙流體清潔液。

6.根據權利要求5所述的噴嘴清潔裝置，其特征在于：

還包括控制元件，分別控制所述溶劑與所述氣體的供給，且

所述控制元件是在將所述雙流體清潔液供給至所述去除元件之后，對所述去除元件只供給所述氣體，而使所述去除元件干燥。

7.一種涂布裝置，其特征在于包括：

狹縫噴嘴，從狹縫狀的開口朝向被處理體噴出涂布液；

保持元件，保持所述被處理體；

權利要求1至6中任一所述的噴嘴清潔裝置；

狹縫噴嘴移動元件，使所述狹縫噴嘴在與所述去除元件對向的位置和與由所述保持元件保持的所述被處理體對向的位置之間移動；以及

相對移動元件，使由所述保持元件保持的所述被處理體與所述狹縫噴嘴相對移動。

8.一種噴嘴清潔方法，其特征在于包括：

去除步驟，將去除元件從位于狹縫噴嘴的一側端部的外側的去除前待機位置沿所述狹縫噴嘴的長度方向移動至位于狹縫噴嘴的另一側端部的外側的清潔位置，使所述去除元件沿著配置在規定位置的狹縫噴嘴的開口部從其中一側向另一側滑動，而去除附著在所述狹縫噴嘴的附著物；

密閉步驟，當所述去除元件位于所述清潔位置時，在狹縫噴嘴的另一側端部的外側形成覆蓋所述去除元件而將所述去除元件從所述狹縫噴嘴隔離的密閉空間；

清潔步驟，在所述密閉空間內對所述去除元件供給清潔液；

排出步驟，將所述密閉空間內的氣液排出至所述密閉空間的外部；

開放步驟，打開所述密閉空間而解除密閉狀態；以及

返回步驟，使所述去除元件從所述另一側向所述其中一側移動。

9.一種涂布方法，從狹縫噴嘴噴出涂布液而將所述涂布液涂布至被處理體；其特征在于：

除包括權利要求8所述的噴嘴清潔方法中的所述各步驟以外，還包括：

涂布前搬送步驟，將所述被處理體搬送至利用所述狹縫噴嘴開始涂布處理的位置；

涂布前移動步驟，將所述狹縫噴嘴移動至可開始所述涂布處理的位置；

涂布步驟，在從所述狹縫噴嘴噴出所述涂布液的狀態下，使所述狹縫噴嘴與所述被處理體在對向配置下相對移動，而對所述被處理體實施所述涂布處理；

涂布后移動步驟，將所述狹縫噴嘴移動至所述規定位置為止；以及

涂布后搬送步驟，將結束所述涂布處理的所述被處理體搬送至下一處理的處理部。