[發(fā)明專利]非線性光學(xué)晶體碘酸鉍銣及其制備方法和應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410058195.5
• 申請(qǐng)日: 2014-02-20
• 公開（公告）號(hào): CN103789831A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃印;陳興國(guó);秦金貴
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢大學(xué)
• 主分類號(hào): C30B29/10
• 分類號(hào): C30B29/10;C30B7/10;G02F1/355
• 代理公司: 武漢科皓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 張火春

1.一種無(wú)機(jī)晶體化合物，其特征在于，分子式為Rb₂BiI₅O₁₅。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)晶體化合物，其特征在于，晶體空間群為Abm2。

3.一種制備權(quán)利要求1和2所述的無(wú)機(jī)晶體化合物的方法，其特征在于，包括以下步驟：將摩爾比為6：6~12：1~2：6~12的RbIO₄、RbCl、Bi₂O₃和H₅IO₆，加入水熱反應(yīng)釜內(nèi)，再加入蒸餾水至RbIO₄的最終濃度為2?mol/L；將密閉的水熱反應(yīng)釜放入馬弗爐內(nèi)，加熱至225-230°C，恒溫反應(yīng)4~6天再降溫至室溫；反應(yīng)結(jié)束后，將產(chǎn)物置于超聲清洗器中用蒸餾水洗滌，過(guò)濾，然后用乙醇沖洗，即得到無(wú)機(jī)晶體化合物Rb₂BiI₅O₁₅。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的無(wú)機(jī)晶體化合物的制備方法，其特征在于，所述的降溫方式為自然降溫或以2~6?°C/h的速率降溫。

5.權(quán)利要求2所述的無(wú)機(jī)晶體化合物作為二階非線性光學(xué)晶體材料的應(yīng)用。