[發明專利]一種基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法

有效

• 申請號: 201410057975.8
• 申請日: 2014-02-20
• 公開（公告）號: CN103789741A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 劉前
• 申請（專利權）人: 蘇州華維納納米科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/20;B82Y40/00
• 代理公司: 蘇州慧通知識產權代理事務所(普通合伙) 32239
• 代理人: 丁秀華

1.一種基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法，其特征在于所述制備方法包括如下步驟：a、選取基底；b、在所選基底上形成聚合物薄膜，并進行烘干處理，得到該聚合物薄膜的厚度為5100nm；c、在步驟b所得的聚合物薄膜上形成金屬薄膜，其厚度為220nm；d、采用原子力顯微鏡在步驟c所得的金屬薄膜表面進行圖案化掃描；e、將步驟d所得的產物加熱至所述聚合物薄膜的玻璃化轉變溫度。

2.根據權利要求1所述的基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法，其特征在于：所述步驟b中聚合物薄膜的厚度優選為510nm。

3.根據權利要求1所述的基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法，其特征在于：所述步驟b中的聚合物薄膜材料為聚苯乙烯。

4.根據權利要求1所述的基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法，其特征在于：所述步驟b中的烘干處理溫度為聚合物玻璃化轉化溫度，或者低于聚合物玻璃化轉化溫度。

5.根據權利要求1所述的基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法，其特征在于：所述步驟c中的金屬薄膜材料為錫或銀。

6.根據權利要求4所述的基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法，其特征在于：在所述步驟c中采用真空氣相沉積法制備錫薄膜或者銀薄膜。

7.根據權利要求1所述的基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法，其特征在于：在所述步驟d中采用原子力顯微鏡的懸臂梁對金屬表面進行圖案掃描。

8.根據權利要求1所述的基于褶皺的金屬表面納米結構制備方法，其特征在于：所述步驟a中的基底為載玻片、單晶硅片、石英玻璃、導電玻璃或者普通玻璃。