[發明專利]基于二硼化鈦的復合刀具涂層及其制備方法無效
| 申請號: | 201410057176.0 | 申請日: | 2014-02-20 |
| 公開(公告)號: | CN103849834A | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發明(設計)人: | 華云峰;査鋼強;姚棟嘉;王琳琳;王曉明 | 申請(專利權)人: | 西工大常熟研究院有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/22;B23B27/14 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 項麗 |
| 地址: | 215500 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 二硼化鈦 復合 刀具 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種基于二硼化鈦的復合刀具涂層,其特征在于:它包括交替層疊的TiB2-Ni層和DLC-Ni層,所述的TiB2-Ni層和DLC-Ni層的厚度為納米級。
2.根據權利要求1所述的基于二硼化鈦的復合刀具涂層,其特征在于:所述的TiB2-Ni層中TiB2含量為60~95?at%,Ni含量為5~40?at%;所述的DLC-Ni層中Ni含量為20~40?at%,碳含量為60~80?at%。
3.根據權利要求1所述的基于二硼化鈦的復合刀具涂層,其特征在于:所述的TiB2-Ni層和DLC-Ni層的厚度為4~20納米,所述的復合刀具涂層厚度為0.5微米~2毫米。
4.權利要求1至3中任意項所述復合刀具涂層的制備方法,其特征在于,依次包括以下步驟:
(a)在儀器上分別安裝TiB2源、碳源、金屬Ni源以及基板;
(b)將所述的儀器抽真空,并加熱基板;
(c)向儀器內通入惰性氣體,分別設置好TiB2源、碳源和金屬Ni源的配比和參數,交替開合TiB2源、碳源擋板進行物理氣相沉積30~200分鐘即可。
5.根據權利要求4所述的復合刀具涂層的制備方法,其特征在于:步驟(a)中,所述基板在安裝前依次用無水乙醇、丙酮、無水乙醇超聲清洗10~20min,然后于70~90℃下鼓風干燥1~2小時。
6.根據權利要求4所述的復合刀具涂層的制備方法,其特征在于:所述步驟(c)中,在物理氣相沉積前,先進行8~15分鐘預濺射。
7.根據權利要求4所述的復合刀具涂層的制備方法,其特征在于:步驟(b)中,所述抽真空是將儀器的沉積室內背底真空低于9.5×10-4?Pa;所述基板加熱溫度為25~500℃,并保溫20~30分鐘。
8.根據權利要求7所述的復合刀具涂層的制備方法,其特征在于:所述步驟(c)中,通入的惰性氣體為氬氣,其流量為20~40sccm,并將沉積室內氣壓調至0.1~1Pa。
9.根據權利要求4所述的復合刀具涂層的制備方法,其特征在于:步驟(a)中,所述TiB2源、碳源、金屬Ni源分別為TiB2陶瓷靶、碳靶、Ni金屬靶;步驟(c)中,所述TiB2陶瓷靶電源參數為:中頻50~200KHZ、功率100~500W、占空比60~90%;所述碳靶電源參數為:中頻50~200KHZ、功率100~500W、占空比60~90?%;所述Ni?金屬靶電源參數為:直流功率0~20W。
10.根據權利要求4?所述的制備方法,其特征在于:步驟(c)中,所述的物理氣相沉積為磁控濺射沉積、真空蒸鍍沉積或離子束輔助沉積。
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