[發明專利]兆瓦級離子源功率密度分布的測量方法

在審

• 申請號: 201410057125.8
• 申請日: 2014-02-19
• 公開（公告）號: CN103837883A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 劉勝;胡純棟;于玲;許永建
• 申請（專利權）人: 中國科學院等離子體物理研究所
• 主分類號: G01T1/29
• 分類號: G01T1/29
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

1.一種兆瓦級離子源功率密度分布的測量方法，其特征在于：包括測量靶板、熱電偶傳感器、導線、冷卻水管、數據采集系統，強流離子源發射的高能粒子束射擊到測量靶板上，在測量靶板背面鉆取若干個一定深度盲孔，電偶傳感器分布于盲孔內組成傳感器陣列并通過導線連接到數據采集系統，冷卻水管根據根據熱傳感器的位置呈蛇管型分布于測量靶內，根據熱電偶傳感器的位置以及溫度可以計算出高能粒子束的功率密度分布。

2.根據權利要求1所述的兆瓦級離子源功率密度分布的測量方法，其特征在于：所述的測量靶板利用純銅材料制成。

3.根據權利要求1所述的兆瓦級離子源功率密度分布的測量方法，其特征在于：所述的熱電偶傳感器為鎧裝熱電偶，并且在盲孔內與靶板和導線氬弧焊，熱電偶傳感器陣列設計為方形或圓形。

4.根據權利要求1所述的兆瓦級離子源功率密度分布的測量方法，其特征在于：所述的冷卻水管道為不銹鋼管道，內表面經過鈍化處理，直接連接在冷卻水箱上面。

5.根據權利要求1所述的兆瓦級離子源功率密度分布的測量方法，其特征在于：所述的數據采集系統通道間相互電氣隔離，通過隔離變壓器單獨供電，并在數據采集系統前端布置冷端補償模塊。