[發明專利]一種基于連續晶體的雙平板成像裝置

有效

• 申請號: 201410056890.8
• 申請日: 2014-02-19
• 公開（公告）號: CN103800023A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 贠明凱;王海鵬;黃先超;劉雙全;曹學香;李琳;李道武;周小林;顧笑悅;張玉包;單保慈;魏龍
• 申請（專利權）人: 中國科學院高能物理研究所
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 闞梓瑄

1.一種基于連續晶體的雙平板成像裝置，其特征在于，包括兩個探測模塊，所述探測模塊包括連續晶體、光電轉換部件和陣列讀出電子學系統，所述光電轉換部件鄰接于所述連續晶體，所述陣列讀出電子學系統與所述光電轉換部件相連。

2.如權利要求1所述的基于連續晶體的雙平板成像裝置，其特征在于，所述連續晶體四個側面和上表面涂有吸光材料。

3.如權利要求1所述的基于連續晶體的雙平板成像裝置，其特征在于，所述連續晶體與所述光電轉換部件通過光導或光學油脂直接耦合連接。

4.如權利要求1所述的基于連續晶體的雙平板成像裝置，其特征在于，所述陣列讀出電子學系統為多路讀出。

5.如權利要求1-4任一所述的基于連續晶體的雙平板成像裝置，其特征在于，還包括符合板和上位機數據處理系統，所述兩個探測模塊均通過所述符合板連接到所述上位機數據處理系統，所述符合板判斷兩所述探測模塊采集的兩γ光子信號是否在同一時刻發生，如是則將兩信號發送到所述上位機數據處理系統。

6.如權利要求5所述的基于連續晶體的雙平板成像裝置，其特征在于，所述上位機數據處理系統或所述陣列讀出電子學系統中包括位置擬合單元，所述光電轉換部件包括陣列排布的多個探測單元，所述位置擬合單元根據所述各探測單元的探測強度分布I(m,n)，擬合得出外界放射源射入的γ光子與所述連續晶體的作用位置s(x,y,z)，其中m和n為探測單元的位置編號。

7.如權利要求6所述的基于連續晶體的雙平板成像裝置，其特征在于，所述位置擬合單元采用立體角模型，所述光電轉換部件中第（m,n）個探測單元對點光源位置s（x,y,z）所張立體角具體為：

Ω~=w·h·z((x-(m+0.5)·w)2+(y-(n+0.5)·h)2+z2)3/2.]]>

其中，為第（m,n）個探測單元對點光源位置s（x,y,z）所張立體角；

w為每個探測單元的寬度；

h為每個探測單元的高度；

x、y、z為所述γ光子與連續晶體的作用位置。

8.如權利要求7所述的基于連續晶體的雙平板成像裝置，其特征在于，采用立體角模型對γ光子與連續晶體的作用位置進行擬合，并在擬合模型中引入歸一化因子A，且I(m,n|x,y,z,A)=A·Ω~.]]>