[發明專利]自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備及其結晶操作控制方法

有效

• 申請號: 201410056478.6
• 申請日: 2014-02-19
• 公開（公告）號: CN104843754B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 商能洲;盧宗隆;張朝謙
• 申請（專利權）人: 鋒霈環境科技股份有限公司
• 主分類號: C01F7/54
• 分類號: C01F7/54
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司31211
• 代理人: 丁紀鐵

1.一種自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，其特征是，包括：

一控制處理器；

一結晶反應槽，具有相對的一頂部槽口及一底部出口，該結晶反應槽內部設有一具多個液孔的分散盤，以及一位于該分散盤上且具多個通孔的控制盤，令該結晶反應槽內部為該分散盤及該控制盤隔設形成一上部投藥空間及一下部反應空間，該投藥空間設有一鋁酸鈉液位計，該反應空間經該出口與一排放控制段連通，供排出反應生成的結晶物及低濃度氫氟酸廢液，該鋁酸鈉液位計與該排放控制段為該控制處理器電性控制做動；

一鋁酸鈉藥劑槽，經一為該控制處理器電性控制的批次定量控制段輸出鋁酸鈉藥劑至該結晶反應槽的該投藥空間內；

一高濃度氫氟酸廢液槽，經一為該控制處理器電性控制的批次定量控制段輸出高濃度氫氟酸廢液至該結晶反應槽的該反應空間；以及；

一pH值/氟離子檢測段，具有相連通的一pH計及一氟量計為該控制處理器電性控制做動，該pH計具有一第一流道與該結晶反應槽反應空間底部連通，該氟量計具有一與該反應空間頂部連通的第二流道。

2.如權利要求1所述自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，其特征是：該鋁酸鈉藥劑槽設有一液位計及一排放閥，該鋁酸鈉藥劑槽的批次定量控制段具有一輸送泵浦，以及二球閥分別設于該輸送泵浦與該鋁酸鈉藥劑槽及該結晶反應槽之間，該批次定量控制段鄰近該結晶反應槽處設有一鋁酸鈉流量計，令該液位計、該輸送泵浦、該二球閥、該鋁酸鈉流量計及該排放閥為該控制處理器電性控制做動。

3.如權利要求1所述自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，其特征是：該高濃度氫氟酸廢液槽設有一液位計及一排放閥，該高濃度氫氟酸廢液槽的批次定量控制段具有一輸送泵浦，以及二球閥分別設于該輸送泵浦與該高濃度氫氟酸廢液槽及該結晶反應槽之間，且該批次定量控制段鄰近該結晶反應槽處設有一氫氟酸流量計，令該液位計、該輸送泵浦、該二球閥、該氫氟酸流量計及該排放閥為該控制處理器電性控制做動。

4.如權利要求1所述的自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，其特征是：該結晶反應槽反應空間設有一為該控制處理器電性控制做動的氫氟酸液位計，該結晶反應槽的排放控制段具有一流量控制閥及一球閥，且該流量控制閥與該結晶反應槽出口之間另設有一排放流道，該排放流道具有一球閥控制，令該排放控制段的流量控制閥及該球閥與該排放流道球閥為該控制處理器電性控制做動。

5.如權利要求1所述的自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，其特征是：該pH值/氟離子檢測段的第一流道具有一量測泵浦，該結晶反應槽與該量測泵浦之間設有一流量控制閥及一球閥，且該量測泵浦與該pH計之間設有一球閥及一清水輸入段，該清水輸入段具有一流量控制閥控制清水輸入量，該第二流道系設有一回流控制閥，該氟量計另設有一第三流道設有一排流控制閥及一球閥供控制排放廢液，令該pH值/氟離子檢測段的該量測泵浦、該二流量控制閥、該三球閥及該排流控制閥為該控制處理器電性控制做動。

6.如權利要求5所述自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，其特征是：該第二流道連通至結晶反應槽內部的末端開口設于結晶反應槽反應空間的上方槽壁至反應空間的上方槽中心處。

7.如權利要求1所述自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，該排放控制段連接至一脫水機及一低濃度氫氟酸廢液槽以分離結晶物及低濃度氫氟酸廢液，其特征是：

該脫水機，為該控制處理器電性控制做動，該脫水機與該結晶反應槽的排放控制段連通；

該低濃度氫氟酸廢液槽，為該控制處理器電性控制，供收集該脫水機排出的低濃度氫氟酸廢液。

8.如權利要求7所述自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，其特征是：該低濃度氫氟酸廢液槽與該脫水機的間設有一球閥控制低濃度氫氟酸廢液流量，且該低濃度氫氟酸廢液槽設有一液位計、一排放閥及一低濃度氫氟酸廢液輸出段，該低濃度氫氟酸廢液輸出段具有一輸送泵浦，以及二球閥分別設于該輸送泵浦與該低濃度氫氟酸廢液槽之間以及該輸送泵浦排放端，令該液位計、該排放閥、該輸送泵浦及該三球閥為該控制處理器電性控制做動。

9.如權利要求1所述自氫氟酸溶液生成氟鋁酸鈉晶體的結晶系統設備，其特征是：設于一防溢基座上，該防溢基座周側設有一防溢體并具有為該控制處理器電性控制做動的一探漏器及一設于該防溢基座底部的排液閥。