[發(fā)明專利]一種濕制程設(shè)備清洗方法及裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410056431.X
• 申請(qǐng)日: 2014-02-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104841662B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳德和
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 宇宙電路板設(shè)備（深圳）有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/08
• 分類號(hào): B08B3/08
• 代理公司: 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所44237
• 代理人: 張全文

1.一種濕制程設(shè)備清洗方法，其特征在于，包括：

啟動(dòng)濕制程設(shè)備的清洗程序；

調(diào)用清洗步驟組合中的參數(shù)組，所述參數(shù)組包括子液的加液量，所述子液為添加進(jìn)清洗液中的液體；

根據(jù)所述清洗步驟組合中的清洗步驟的順序，依次根據(jù)所述加液量添加子液至清洗液中，并根據(jù)所述清洗步驟的順序自動(dòng)清洗所述濕制程設(shè)備。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

當(dāng)調(diào)整所述清洗液的濃度時(shí)，獲取所述清洗液的高度；

根據(jù)預(yù)先建立的清洗液的高度與轉(zhuǎn)換系數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系，查找與獲取到的清洗液的高度對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)換系數(shù)；

根據(jù)所述高度、所述轉(zhuǎn)換系數(shù)以及所述濕制程設(shè)備的底面積的乘積，生成與所述清洗液的濃度對(duì)應(yīng)的加液量。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述清洗步驟組合包括固定清洗步驟組合和自定義清洗步驟組合，所述固定清洗步驟組合包括化銅段自動(dòng)清洗步驟組合和除膠渣自動(dòng)清洗步驟組合。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，當(dāng)所述清洗步驟組合包括固定清洗步驟組合和自定義清洗步驟組合時(shí)，所述調(diào)用清洗步驟組合中的參數(shù)組，包括：

顯示清洗步驟組合列表，所述清洗步驟組合列表中包括清洗過(guò)程中所有的固定清洗步驟組合和自定義清洗步驟組合；

檢測(cè)用戶在所述清洗步驟組合列表中指定的清洗步驟組合；

調(diào)用指定的清洗步驟組合中的參數(shù)組。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法，其特征在于，還包括：

顯示步驟列表，所述步驟列表中包括清洗過(guò)程中所有的步驟；

檢測(cè)用戶在所述步驟列表中指定的步驟，以及指定的步驟的排列順序；

根據(jù)所述指定的步驟以及所述指定的步驟的排列順序，生成自定義清洗步驟組合。

6.一種濕制程設(shè)備清洗裝置，其特征在于，包括：

啟動(dòng)單元，用于啟動(dòng)濕制程設(shè)備的清洗程序；

調(diào)用單元，用于調(diào)用清洗步驟組合中的參數(shù)組，所述參數(shù)組包括子液的加液量，所述子液為添加進(jìn)清洗液中的液體；

清洗單元，用于根據(jù)所述清洗步驟組合中的清洗步驟的順序，依次根據(jù)所述加液量添加子液至清洗液中，并根據(jù)所述清洗步驟的順序自動(dòng)清洗所述濕制程設(shè)備。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，

獲取單元，用于當(dāng)調(diào)整所述清洗液的濃度時(shí)，獲取所述清洗液的高度；

查找單元，用于根據(jù)預(yù)先建立的清洗液的高度與轉(zhuǎn)換系數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系，查找與獲取到的清洗液的高度對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)換系數(shù)；

生成單元，用于根據(jù)所述高度、所述轉(zhuǎn)換系數(shù)以及所述濕制程設(shè)備的底面積的乘積，生成調(diào)整與所述清洗液的濃度對(duì)應(yīng)的加液量。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述清洗步驟組合包括固定清洗步驟組合和自定義清洗步驟組合，所述固定清洗步驟組合包括化銅段自動(dòng)清洗步驟組合和除膠渣自動(dòng)清洗步驟組合。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，還包括：

第一顯示單元，顯示清洗步驟組合列表，所述清洗步驟組合列表中包括清洗過(guò)程中所有的固定清洗步驟組合和自定義清洗步驟組合；

第一檢測(cè)單元，檢測(cè)用戶在所述清洗步驟組合列表中指定的清洗步驟組合；

第一調(diào)用單元，調(diào)用指定的清洗步驟組合中的參數(shù)組。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的裝置，其特征在于，還包括：

第二顯示單元，用于顯示步驟列表，所述步驟列表中包括清洗過(guò)程中所有的步驟；

第二檢測(cè)單元，檢測(cè)用戶在所述步驟列表中指定的步驟，以及指定的步驟的排列順序；

第二檢測(cè)單元，根據(jù)所述指定的步驟以及所述指定的步驟的排列順序，生成自定義清洗步驟組合。