[發明專利]微納米散斑的制備方法和系統

有效

• 申請號: 201410054817.7
• 申請日: 2014-02-18
• 公開（公告）號: CN103808440A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 謝惠民;朱榮華;吳丹
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G01L1/24
• 分類號: G01L1/24;G01B11/16;B82Y40/00
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張大威

1.一種微納米散斑的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

生成預設數量的散斑顆粒大小和/或散斑數目不同的數字散斑圖，并從中選取至少一幅所述數字散斑圖作為散斑模板，其中，所述數字散斑圖為二值圖；

對待處理試件和目標試件的待處理區域進行預處理，其中，所述目標試件與所述待處理試件的材質相同；

將所述散斑模板導入散斑沉積設備；

對所述待處理試件的待處理區域進行對焦，以獲取當前放大倍數下的最優參數組；

根據所述最優參數組調節所述散斑沉積設備，并根據所述散斑模板在所述目標試件的待處理區域沉積散斑。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述生成預設數量的散斑顆粒大小和/或散斑數目不同的數字散斑圖，并選取散斑模板具體包括：

根據圖像的平均灰度梯度從所述數字散斑圖中選取所述散斑模板，其中，所述圖像的平均灰度梯度為：

δf=Σi=1WΣj=1H|▿f(xij)|W×H]]>

其中，W和H分別為像素值表示的圖像的寬度和高度；為每個像素點灰度梯度矢量的模；f_x(x_ij)和f_y(x_ij)分別為像素點x_ij在x-和y-方向的灰度導數。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述待處理試件的待處理區域進行對焦，以獲取當前放大倍數下的最優參數組進一步包括：

調節所述散斑沉積設備的參數值，根據所述散斑模板在所述待處理試件的所述待處理區域沉積多個散斑圖像，其中，所述散斑沉積設備的參數包括沉積總時間、點停留時間和束流強度；

根據所述多個散斑圖像獲取最優散斑圖像，并記錄與所述最優散斑圖像對應的參數值，作為在當前放大倍數下的最優參數組。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述對所述待處理試件的待處理區域進行對焦，以獲取當前放大倍數下的最優參數組之前，還包括：

調節所述散斑沉積設備的放大倍數，以將所述散斑圖像的調節至所需大小。

5.如權利要求1-4任一項所述的方法，其特征在于，所述散斑沉積設備為聚焦離子束設備。

6.一種微納米散斑的制備系統，其特征在于，包括：

模板生成模塊，用于生成預設數量的散斑顆粒大小和/或散斑數目不同的數字散斑圖，并從中選取至少一幅所述數字散斑圖作為散斑模板，其中，所述數字散斑圖為二值圖；

預處理模塊，用于對待處理試件和目標試件的待處理區域進行預處理，其中，所述目標試件與所述待處理試件的材質相同；

模板導入模塊，用于將所述散斑模板導入散斑沉積設備；

對焦模塊，用于對所述待處理試件的待處理區域進行對焦，以獲取當前放大倍數下的最優參數組；

沉積模塊，用于根據所述散斑模板和所述最優參數組在經過所述預處理的目標試件的待處理區域沉積散斑。