[發明專利]分子篩EMM-12及其制備在審
| 申請號: | 201410053951.5 | 申請日: | 2009-07-15 |
| 公開(公告)號: | CN103754892A | 公開(公告)日: | 2014-04-30 |
| 發明(設計)人: | T·E·赫爾登;M·J·文森特 | 申請(專利權)人: | 埃克森美孚化學專利公司 |
| 主分類號: | C01B39/46 | 分類號: | C01B39/46;C01B39/48 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 寧家成 |
| 地址: | 美國得*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分子篩 emm 12 及其 制備 | ||
1.一種分子篩,呈其合成后原樣的形式和煅燒過的形式的該分子篩具有這樣的X-射線衍射圖,其包括具有在14.17到12.57埃范圍內的d-間距最大值的峰,具有在12.1到12.56埃范圍內的d-間距最大值的峰,和在8.85到11.05埃之間的非分立散射,或者在具有在10.14到12.0埃范圍內的d-間距最大值的峰和具有在8.66到10.13埃范圍內的d-間距最大值的峰之間顯示出谷,該谷在最低點的用背景校正的測定強度不小于在連接在10.14到12.0埃范圍內的最大值和在8.66到10.13埃范圍內的最大值的線上在相同X-射線衍射d-間距點的50%。
2.權利要求1的分子篩,呈其合成后原樣的形式和煅燒過的形式的該分子篩進一步具有包括在3.57±0.07和3.42±0.07埃處的峰的X-射線衍射圖。
3.權利要求1或2的分子篩,呈其合成后原樣的形式和煅燒過的形式的該分子篩進一步具有包括在6.9±0.15埃處的峰的X-射線衍射圖。
4.權利要求1或2的分子篩,其具有涉及以下摩爾關系的組成:
X2O3:(n)YO2,
其中X是包含鋁、硼、鐵和鎵中至少一種的三價元素,Y是包含硅和鍺中至少一種的四價元素,且n是至少10。
5.權利要求4的分子篩,其中在無水基礎上并且按摩爾氧化物/n摩爾YO2計,合成后原樣形式的所述分子篩具有下式:
(0.005-1)M2O:(1-4)R:X2O3:nYO2
其中M是堿金屬或堿土金屬,并且R是有機結構部分。
6.權利要求4的分子篩,其中所述n是10到150。
7.權利要求5的分子篩,其中所述n是10到150。
8.權利要求4的分子篩,其中所述n是10到50。
9.權利要求5的分子篩,其中所述n是10到50。
10.權利要求4的分子篩,其中X是鋁,且Y是硅。
11.權利要求5的分子篩,其中X是鋁,且Y是硅。
12.權利要求1或2的分子篩,其中所述分子篩具有至少150μmol/g的可力丁吸附能力。
13.權利要求1或2的分子篩,其中所述分子篩具有至少250μmol/g的可力丁吸附能力。
14.一種制備合成后原樣的分子篩EMM-12的方法,該方法包括以下步驟:
(a)提供包含EMM-10-P家族組合物和酸性組合物的混合物;
(b)在處理條件下處理所述混合物,以形成包含合成后原樣的EMM-12的產物;和
(c)回收所述酸處理的結晶分子篩。
15.權利要求14的方法,其中所述步驟(a)的混合物還包含間隔劑。
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