[發明專利]粒子射線照射裝置

有效

• 申請號: 201410052116.X
• 申請日: 2009-06-09
• 公開（公告）號: CN103768730A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 巖田高明
• 申請（專利權）人: 三菱電機株式會社
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 俞丹

1.一種用于治療的粒子射線照射裝置，

利用控制器（10）對加速器（11）和掃描電磁鐵（3）進行控制，將從所述加速器（11）射出的帶電粒子束照射至照射對象，

所述掃描電磁鐵（3）包括：Ｘ方向掃描電磁鐵（3ａ）；以及Ｙ方向掃描電磁鐵（3ｂ），該Ｙ方向掃描電磁鐵（3ｂ）在與所述Ｘ方向的掃描方向相正交的方向上進行掃描，其特征在于，

所述控制器（10）具有Ｘ方向和Ｙ方向逆映射數學模型，該Ｘ方向和Ｙ方向逆映射數學模型分別基于照射對象的帶電粒子束的目標照射位置坐標來生成Ｘ方向指令值和Ｙ方向指令值，以實現照射至照射對象的照射，所述Ｘ方向指令值是用于對所述Ｘ方向掃描電磁鐵（3ａ）進行勵磁的Ｘ方向指令值，所述Ｙ方向指令值是用于對所述Ｙ方向掃描電磁鐵（3ｂ）進行勵磁的Ｙ方向指令值，

所述Ｘ方向和Ｙ方向逆映射數學模型分別是包含以兩個變量來表示帶電粒子束的照射位置平面上的所述目標照射位置坐標時的所述兩個變量中的任意一個的多項式，

所述多項式中所包含的未知系數通過以下方式求出：即，對所述Ｘ方向掃描電磁鐵(3ａ)和Ｙ方向掃描電磁鐵（3ｂ）輸入預先設定的多組Ｘ方向和Ｙ方向指令值，對帶電粒子束進行控制，對于實際照射的各照射位置坐標的實際數據，利用對其部分數據附加較小權重的加權最小二乘法來求出，以提高可靠性，

所述用于治療的粒子射線照射裝置具有攝像裝置，根據所述攝像裝置攝像過程中照射目標的移動或變形的信息，對所述目標照射位置坐標進行修正，根據修正后的所述目標照射位置坐標，并利用基于作為多項式的所述Ｘ方向和Ｙ方向逆映射數學模型所分別生成的所述X方向和Y方向指令值，跟蹤所述照射目標的移動或變形，由此控制所述Ｘ方向掃描電磁鐵（3ａ）和Ｙ方向掃描電磁鐵（3ｂ）來對帶電粒子束進行掃描并照射到照射對象上。

2.如權利要求1所述的用于治療的粒子射線照射裝置，其特征在于，

所述X方向和Ｙ方向逆映射數學模型有多組，能夠從所述多組中選擇要使用的所述X方向和Ｙ方向逆映射數學模型。