[發(fā)明專利]超低氧含量熱噴涂管靶及其制備方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410051665.5
• 申請(qǐng)日: 2014-02-14
• 公開（公告）號(hào): CN103774101A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋愛謀;鐘小亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東昊軒電子陶瓷材料有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34
• 代理公司: 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 37212
• 代理人: 耿霞

1.一種超低氧含量熱噴涂管靶，其特征在于所述的超低氧含量熱噴涂管靶的氧含量為1-2000ppm，純度為99-99.999%，平均粒徑為1-100微米，孔隙率為0.1-3%。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超低氧含量熱噴涂管靶，其特征在于所述的超低氧含量熱噴涂管靶的材質(zhì)是鎳鉻、硅鋁、鋅錫、鋅鋁、錫、鈦、鉻或鈮中的一種。

3.一種權(quán)利要求1或2所述的超低氧含量熱噴涂管靶的制備方法，其特征在于步驟如下：

（1）金屬粉體的選用，

（2）將熱噴涂設(shè)備及噴涂基體置入氬氣保護(hù)氣氛中，金屬粉體采用等離子熱噴涂的方式對(duì)工件進(jìn)行噴涂；

（3）對(duì)噴涂完畢的工件進(jìn)行精密機(jī)械加工，即獲得超低氧含量熱噴涂管靶。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超低氧含量熱噴涂管靶的制備方法，其特征在于步驟（1）中所述的金屬粉體是鎳粉、鉻粉、硅粉、鋁粉、鋅粉、錫粉、鈦粉或鈮粉中的一種或兩種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的超低氧含量熱噴涂管靶的制備方法，其特征在于步驟（1）中所述的金屬粉體的選用是當(dāng)金屬粉體中含有鋁粉、鋅粉或錫粉時(shí)，直接選用D50為20-80微米、純度為99.5-99.999%、氧含量為1-1000ppm的鋁粉、鋅粉或錫粉；當(dāng)金屬粉體中含有鎳粉、鉻粉、硅粉、鈦粉或鈮粉時(shí)，將鎳粉、鉻粉、硅粉、鈦粉或鈮粉放入推板窯爐中進(jìn)行氫氣還原處理，獲得氧含量為1-1000ppm的鎳粉、鉻粉、硅粉、鈦粉或鈮粉。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的超低氧含量熱噴涂管靶的制備方法，其特征在于所述的氫氣還原處理中氫氣純度為99.9-99.999%，還原溫度為600-1400度，還原時(shí)間為2-10小時(shí)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超低氧含量熱噴涂管靶的制備方法，其特征在于步驟（2）中所述的金屬粉體為鎳粉、鉻粉、硅粉、鋁粉、鋅粉、錫粉、鈦粉或鈮粉中的一種時(shí)，直接取用；金屬粉體為鎳粉、鉻粉、硅粉、鋁粉、鋅粉、錫粉、鈦粉或鈮粉中的兩種時(shí)，用三維混料機(jī)對(duì)粉體進(jìn)行混粉。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的超低氧含量熱噴涂管靶的制備方法，其特征在于所述的混粉時(shí)間為5-60分鐘。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超低氧含量熱噴涂管靶的制備方法，其特征在于步驟（2）中所述的噴涂時(shí)間為24-72小時(shí)。