[發明專利]一種立體結構的制備裝置

無效

• 申請號: 201410050945.4
• 申請日: 2014-02-14
• 公開（公告）號: CN103802318A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 黃潔
• 申請（專利權）人: 青島尚慧信息技術有限公司
• 主分類號: B29C67/00
• 分類號: B29C67/00
• 代理公司: 青島聯智專利商標事務所有限公司 37101
• 代理人: 崔濱生

1.一種立體結構的制備裝置，所述立體結構的三維模型經過分層處理后得到多個二維切片；其中，該裝置包括：

第一噴頭、第二噴頭以及可以為所述第一噴頭和第二噴頭進給物料的進給部件；所述第一噴頭上設置有第一噴嘴，所述第二噴頭上設置有第二噴嘴；所述進給部件為所述第一噴頭和第二噴頭進給物料時，可以從所述第一噴嘴及第二噴嘴中同時擠出軟化的物料，以根據所述三維模型的一個二維切片聯合制備所述立體結構的一個層。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中，該裝置包括：

與所述第一噴嘴和第二噴嘴距離相等的工作平臺。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中：

所述第一噴嘴和第二噴嘴在平行于所述工作平臺的第一方向上相距第一距離。

4.根據權利要求3所述的裝置，其中：

所述第一噴嘴和第二噴嘴在平行于所述工作平臺的第二方向上相距第二距離，所述第一方向與所述第二方向不平行。

5.根據權利要求1或2所述的裝置，其中，該裝置包括：

框架以及安裝在所述框架上的移動支架；

所述第一噴頭及第二噴頭安裝在所述移動支架上，所述移動支架帶動所述第一噴頭及第二噴頭在垂直于所述立體結構的一層的方向上進行直線運動。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中：

所述進給部件包括可以為所述第一噴頭進給物料的第一進料機構以及可以為所述第二噴頭進給物料的第二進料機構。

7.根據權利要求6所述的裝置，其中：

所述第一噴嘴位于需要填充的位置時，所述第一進料機構為所述第一噴頭進給物料；否則所述第一進料機構停止為所述第一噴頭進給物料；

所述第二噴嘴位于需要填充的位置時，所述第二進料機構為所述第二噴頭進給物料；否則所述第二進料機構停止為所述第二噴頭進給物料。

8.根據權利要求1所述的裝置，其中：

所述第一噴嘴中設置有第一閥門，所述第二噴嘴中設置有第二閥門；

所述第一噴嘴位于需要填充的位置時，所述第一閥門開啟以從所述第一噴嘴中擠出軟化的物料，否則所述第一閥門關閉；

所述第二噴嘴位于需要填充的位置時，所述第二閥門開啟以從所述第二噴嘴中擠出軟化的物料，否則所述第二閥門關閉。