[發明專利]雙介質阻擋放電等離子體氣體凈化的工藝在審
| 申請號: | 201410050854.0 | 申請日: | 2014-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN103816788A | 公開(公告)日: | 2014-05-28 |
| 發明(設計)人: | 李瑞蓮 | 申請(專利權)人: | 山東紫晶光電新材料有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/78 | 分類號: | B01D53/78;B01D53/56;B01D53/50;B01D50/00;B01D53/32 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 255086 山東省淄博市高新區北辛路*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 介質 阻擋 放電 等離子體 氣體 凈化 工藝 | ||
1.一種雙介質阻擋放電等離子體氣體凈化的工藝,其特征是,包括如下步驟:
1)除塵:工業氣體通過三項共效旋流除塵器,進行三效除塵;
2)以氫氧化鈉水溶液為吸收劑,在吸收塔內脫硫;
3)氣體干燥;
4)等離子體氧化:處理后的氣體進入雙介質阻擋放電等離子氧化器進行氧化處理;
5)采用復合脫硝劑噴淋氧化后的氣體脫硝,其中,所述復合脫硝劑按照如下步驟制成:將尿素40-50重量份、碳酸鈉40-50重量份、EDTA合鐵0.2-0.8重量份、助吸收劑0.2-0.8份、雙硬脂?;蚁┤?.2-0.8重量份混合,其中,EDTA合鐵、助吸收劑、表面活性劑重量之和大于1重量份,加入去離子水500-600重量份,攪拌均勻,加入適量氫氧化鈉,調節pH為10-12。
2.根據權利要求1所述的雙介質阻擋放電等離子體氣體凈化的工藝,其特征是,所述三項共效旋流除塵器,包括殼體,所述殼體包括連為一體的導流螺旋機構和導流錐體,在導流螺旋機構和導流錐體結合部設有切向噴吹裝置,殼體上部設有進氣口和排氣口,導流錐體下端設有重力卸灰裝置,在導流錐體下方設有灰倉錐體,灰倉錐體上設有卸灰閥。
3.根據權利要求1所述的雙介質阻擋放電等離子體氣體凈化的工藝,其特征是,助吸收劑的化學式為:
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