[發明專利]顯影液的濃度調節方法、調制裝置和顯影液

有效

• 申請號: 201410050204.6
• 申請日: 2007-11-29
• 公開（公告）號: CN103852978B
• 公開（公告）日: 2019-03-22
• 發明（設計）人: 高崎紀博;杉本建二;棚橋亮太;板東嘉文;能谷敦子;谷口克人
• 申請（專利權）人: 三菱化學工程株式會社
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;G03F7/32;G03D3/00
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

本發明提供一種顯影液的濃度調節方法和調制裝置，其用于調節在光致抗蝕劑顯影工序中使用的堿性顯影液的堿濃度，從而能夠進行高品質的顯影處理。在顯影液的濃度調節方法中，測定顯影液的堿濃度和顯影液中的碳酸鹽濃度，按照能夠發揮使顯影處理后獲得的CD值成為一定的值這樣的溶解能力的堿濃度與碳酸鹽濃度的預先制定的關系，調節堿濃度。另外，顯影液的調制裝置包括：調制槽；向顯影工序供給顯影液的供給管線；回收已用過顯影液的回收管線；將新顯影液原液供給至調制槽的原液供給管線；檢測顯影液的堿濃度和顯影液中的碳酸鹽濃度的濃度計；和按照特定的關系控制顯影液原液的供給的控制裝置。

本申請是2007年11月29日提出的申請號為200780040488.9的同名專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及顯影液的濃度調節方法、調制裝置和顯影液。具體而言，本發明涉及調節在液晶基板、印刷電路板等的制造工序中的光致抗蝕劑顯影處理中所使用的堿性顯影液的堿濃度的方法，即，調節堿濃度至最佳濃度、使得能夠維持一定的顯影速度并能夠進行更高品質的顯影處理的顯影液濃度調節方法，以及適合于該濃度調節方法實施的顯影液調制裝置，和利用上述的濃度調節方法和調制裝置所得到的顯影液。

背景技術

在液晶基板、印刷電路板等的制造工程中的光致抗蝕劑顯影處理中，作為顯影液，使用以氫氧化四甲銨（TMAH）等為主要成分的堿性水溶液。最近，伴隨基板尺寸的大型化和制造工藝的進步，大量地使用這樣的堿性顯影液。從降低制造成本等觀點來考慮，可以將已用過的堿性顯影液加以回收，經再生后向顯影工序供給。然而，隨著顯影液的反復使用，因其在顯影處理停止等期間與光致抗蝕劑中的酸反應并與空氣中的二氧化碳或氧反應而使堿濃度降低。由此，在顯影處理中，抗蝕劑圖案的尺寸精度和未曝光部分的膜厚精度均降低。因此，管理堿濃度而使其保持一定至關重要。

關于顯影液的濃度管理，例如，已公開一種“顯影液管理裝置”，該裝置用于管理在光致抗蝕劑顯影中使用的堿系顯影液，向該顯影裝置循環供給顯影液，并且，同時管理所循環的顯影液的堿濃度和顯影液中的溶解樹脂濃度這兩者，能夠防止顯影性能的惡化。在該顯影液管理裝置中，利用吸光度計檢測顯影液中的溶解樹脂濃度，并利用電導率計檢測顯影液的堿濃度，然后，或者排出裝置內的顯影液且補充顯影液的原液和純水，或者補充新調制的顯影液，使得堿濃度、溶解樹脂濃度和裝置內的顯影液的液位保持為一定。

專利文獻1：日本專利第2561578號公報

然而，在基板的制造中，雖然管理顯影液的堿濃度和顯影液中的溶解樹脂濃度而使其保持為一定，但是在進行顯影處理和蝕刻處理的情況下，仍會發生一種所謂光掩膜或基板上所形成的電路等的圖案的線寬變動的現象。實際上，如果再循環地使用顯影液，則存在一種由顯影處理在基板上形成的電路等的光致抗蝕劑圖案的線寬（CD值）逐漸偏離基準值（設計值）的傾向。即，在顯影處理中，在反復進行處理的過程中，顯影速度產生變動，換言之，針對光致抗蝕劑的溶解速度產生變動，所得到的抗蝕劑圖案的尺寸精度逐漸地降低。其結果是，對通過蝕刻在基板上形成的圖案的線寬產生影響。因此，期望一種在管理顯影液的供給時不會導致顯影速度變動的有改進的管理方法。

發明內容

本發明是鑒于上述的實際情況而提出的技術方案，其目的在于提供一種顯影液的濃度調節方法，該方法用于調節在液晶基板、印刷電路板等的制造工序中的光致抗蝕劑顯影處理中使用的堿性顯影液的堿濃度，能夠維持一定的顯影速度，并能夠進行更高品質的顯影處理。另外，本發明的其它目的在于提供一種顯影液的調制裝置，該裝置能夠使用從光致抗蝕劑顯影工序中回收的堿性的已用過顯影液，調制出能夠進行更高品質顯影處理的顯影液。再者，本發明的其它目的在于提供一種顯影液，該顯影液是使用上述的濃度調節方法和調制裝置且有效地利用已用過顯影液而得到的堿性顯影液，能夠進行高品質的顯影處理。