[發明專利]去除PECVD裝置的電荷的系統及其控制方法有效
| 申請號： | 201410049076.3 | 申請日： | 2014-02-12 |
| 公開（公告）號： | CN103820772A | 公開（公告）日： | 2014-05-28 |
| 發明（設計）人： | 王振斌;蒲以康;凌復華;姜謙 | 申請（專利權）人： | 清華大學;沈陽拓荊科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 張大威 |
| 地址： | 100084 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 去除 pecvd 裝置 電荷 系統 及其 控制 方法 | ||
1.一種去除PECVD裝置的電荷的系統，其特征在于，包括：
PECVD腔室，所述PECVD腔室具有光源出入口；
光源，用于照射所述PECVD腔室的內壁；
驅動裝置，所述驅動裝置與所述光源相連，用于驅動所述光源從所述光源出入口進出所述PECVD腔室；
擋板，所述擋板位于所述PECVD腔室的內壁的一側，用于開閉所述光源出入口；
控制器，所述控制器分別與所述光源，所述驅動裝置和所述擋板相連，用于在通過所述驅動裝置控制所述光源進入所述PECVD腔室時，控制所述擋板打開所述光源出入口并控制所述光源照射所述PECVD腔室的內壁，以及在所述光源移出所述PECVD腔室時、控制所述擋板關閉所述光源出入口。
2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述驅動裝置具體包括：
波紋管，所述波紋管通過支撐桿與所述光源相連；
步進電機，所述步進電機與所述波紋管相連，用于通過所述波紋管驅動所述光源移動。
3.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述驅動裝置通過接口與所述PECVD腔室側面的光源出入口連接。
4.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述擋板的材料與所述PECVD腔室的內壁的材料相同。
5.根據權利要求1-4任一項所述的系統，其特征在于，所述光源為紫外光源。
6.一種如權利要求1-5任一項所述的去除PECVD裝置的電荷的系統的控制方法，其特征在于，包括以下步驟：
控制所述擋板開啟；
在所述擋板開啟后，控制所述光源點亮并通過所述光源出入口進入所述PECVD腔室以利用所述光源照射所述PECVD腔室的內壁以去除所述PECVD腔室的內壁上的電荷；
在對所述PECVD腔室的內壁的照射達到預設條件后，控制所述光源移出所述PECVD腔室；
控制所述擋板關閉以便所述PECVD腔室進入工藝模式。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述擋板安裝在所述PECVD腔室的內壁的一側。
8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述擋板的材料與所述PECVD腔室的內壁的材料相同。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
