[發(fā)明專利]一種X射線曝光控制的方法、裝置與X射線設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410047930.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-02-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104825176B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-09-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 欒干;劉洋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海西門(mén)子醫(yī)療器械有限公司 |
| 主分類號(hào): | A61B6/00 | 分類號(hào): | A61B6/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 201318 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 射線 曝光 控制 方法 裝置 設(shè)備 | ||
1.一種X射線曝光控制的方法,包括:
X射線探測(cè)器將本次接收到的X射線通過(guò)其感光材料轉(zhuǎn)化成電信號(hào);
根據(jù)所述X射線探測(cè)器的敏感度參數(shù),所述X射線探測(cè)器將所述電信號(hào)的計(jì)量值轉(zhuǎn)換為X射線劑量值;
所述X射線探測(cè)器將本次及之前各次的X射線劑量值進(jìn)行累加,得到累加的X射線劑量值;
當(dāng)所述累加的X射線劑量值達(dá)到一X射線劑量閾值時(shí),所述X射線探測(cè)器指示停止所述X射線曝光;
其中,所述X射線探測(cè)器將本次接收到的X射線通過(guò)其感光材料轉(zhuǎn)化成電信號(hào)包括:所述X射線探測(cè)器將在選定的測(cè)量區(qū)域內(nèi)接收到的X射線通過(guò)其感光材料轉(zhuǎn)化成電信號(hào);
所述X射線探測(cè)器指示停止所述X射線曝光后,進(jìn)一步包括:將所述累加的X射線劑量值轉(zhuǎn)換為所述選定的測(cè)量區(qū)域內(nèi)的成像的灰度值,并顯示所述灰度值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述X射線探測(cè)器指示停止所述X射線曝光包括:
所述X射線探測(cè)器向一高壓發(fā)生器發(fā)送X射線曝光停止指示;或者,
所述X射線探測(cè)器向一系統(tǒng)控制工作站發(fā)送X射線曝光停止指示,由所述系統(tǒng)控制工作站控制高壓發(fā)生器停止X射線曝光。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述X射線探測(cè)器向一高壓發(fā)生器發(fā)送X射線曝光停止指示包括:所述X射線探測(cè)器通過(guò)與所述高壓發(fā)生器之間的無(wú)線連接,向所述高壓發(fā)生器發(fā)送X射線曝光停止指示;
所述X射線探測(cè)器向一系統(tǒng)控制工作站發(fā)送X射線曝光停止指示包括:所述X射線探測(cè)器通過(guò)與所述系統(tǒng)控制工作站之間的無(wú)線連接,向所述系統(tǒng)控制工作站發(fā)送X射線曝光停止指示。
4.一種X射線曝光控制的裝置,包括:
一電信號(hào)轉(zhuǎn)換模塊,用于將本次接收到的X射線通過(guò)其感光材料轉(zhuǎn)化成電信號(hào);
一X射線劑量值轉(zhuǎn)換模塊,用于根據(jù)所述X射線探測(cè)器的敏感度參數(shù),將通過(guò)所述電信號(hào)轉(zhuǎn)換模塊轉(zhuǎn)換后的電信號(hào)的計(jì)量值轉(zhuǎn)換為X射線劑量值;
一累加模塊,用于將本次及之前各次的X射線劑量值進(jìn)行累加,得到累加的X射線劑量值;以及,
一指示模塊,用于當(dāng)所述累加的X射線劑量值達(dá)到X射線劑量閾值時(shí),指示停止所述X射線曝光;
其中,所述電信號(hào)轉(zhuǎn)換模塊用于將在選定的測(cè)量區(qū)域內(nèi)接收到的X射線通過(guò)其感光材料轉(zhuǎn)化成電信號(hào);
所述裝置進(jìn)一步包括:
一灰度值轉(zhuǎn)換模塊,用于將所述累加的X射線劑量值轉(zhuǎn)換為所述選定的測(cè)量區(qū)域內(nèi)的成像的灰度值;和,
一顯示模塊,用于顯示所述灰度值。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其特征在于,所述指示模塊用于向一高壓發(fā)生器發(fā)送X射線曝光停止指示;或者,向一系統(tǒng)控制工作站發(fā)送X射線曝光停止指示,由所述系統(tǒng)控制工作站控制高壓發(fā)生器停止X射線曝光。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述指示模塊用于通過(guò)與所述高壓發(fā)生器之間的無(wú)線連接,向所述高壓發(fā)生器發(fā)送X射線曝光停止指示;或者通過(guò)與所述系統(tǒng)控制工作站之間的無(wú)線連接,向所述系統(tǒng)控制工作站發(fā)送X射線曝光停止指示。
7.一種X射線設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求4至6中任意一項(xiàng)所述X射線曝光控制的裝置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海西門(mén)子醫(yī)療器械有限公司,未經(jīng)上海西門(mén)子醫(yī)療器械有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410047930.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





