[發(fā)明專(zhuān)利]液晶顯示器及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410047229.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-02-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103984167A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李大鎬;金榮奭;權(quán)必淑;金源泰;元盛煥;金鐘聲;李宇宰 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1347 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1347;G02F1/1343;G02F1/136;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 薛義丹;韓芳 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示器 及其 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示器,所述液晶顯示器包括:
微腔,形成在絕緣基底上并具有錐形側(cè)壁;
液晶層,位于微腔中;以及
列部分,與微腔的錐形側(cè)壁接觸并且位于微腔之間,
其中,列部分包括第二列有機(jī)層和形成在第二列有機(jī)層外側(cè)的第一列絕緣層,以及
第一列絕緣層的側(cè)表面與微腔的側(cè)壁重合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器,其中,
第一列絕緣層形成在第二列有機(jī)層的側(cè)表面和下表面處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示器,所述液晶顯示器還包括:
像素電極,形成在絕緣基底上且位于微腔下面;以及
共電極,覆蓋液晶層和列部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器,其中,
列部分包括光致抗蝕劑、用于光阻擋構(gòu)件的材料、無(wú)機(jī)材料或有機(jī)材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示器,其中
第一列絕緣層包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅,以及
第二列有機(jī)層由光致抗蝕劑或有機(jī)材料形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶顯示器,其中,
共電極具有水平結(jié)構(gòu)或階梯結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶顯示器,所述液晶顯示器還包括:
第三鈍化層,覆蓋像素電極。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶顯示器,所述液晶顯示器還包括:
支撐構(gòu)件,位于共電極上并覆蓋共電極,其中,
所述支撐構(gòu)件包括:
下絕緣層,位于共電極上,
頂部層,形成在下絕緣層上,以及
上絕緣層,形成在所述頂部層上。
9.一種制造液晶顯示器的方法,所述方法包括:
形成覆蓋像素電極并具有錐形側(cè)壁的犧牲層;
在具有側(cè)壁的犧牲層之間形成與犧牲層對(duì)應(yīng)的列部分,形成列部分的步驟包括形成覆蓋犧牲層之間的空間的第一列絕緣層材料和形成覆蓋第一列絕緣層材料的第二列有機(jī)層材料;
形成液晶注入孔;
通過(guò)液晶注入孔去除犧牲層以形成微腔;以及
將液晶注入到微腔中。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,所述方法還包括:
蝕刻第一列絕緣層材料和第二列有機(jī)層材料以形成第一列絕緣層和第二列有機(jī)層。
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G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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