[發(fā)明專利]用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410042474.2 | 申請日: | 2014-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN103745947A | 公開(公告)日: | 2014-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱裕明;肖天金 | 申請(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陸花 |
| 地址: | 201203 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 激光 退火 監(jiān)控 方法 | ||
1.一種用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:對激光退火機(jī)上的監(jiān)控片進(jìn)行顆粒水平的測量,獲得顆粒測量前值;
步驟二:在所述激光退火機(jī)內(nèi)采用第一功率值對所述監(jiān)控片進(jìn)行激光掃描;
步驟三:對所述監(jiān)控片進(jìn)行顆粒水平的測量,獲得顆粒測量后值;
步驟四:采用快速熱退火的方法對所述監(jiān)控片進(jìn)行退火;
步驟五:在所述監(jiān)控片上注入過硼;
步驟六:在所述激光退火機(jī)內(nèi)采用第二功率值對所述監(jiān)控片進(jìn)行激光掃描,所述第二功率值大于所述第一功率值;
步驟七:對所述監(jiān)控片進(jìn)行方塊電阻阻值的測量,獲得方塊電阻阻值的測量值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:通過計(jì)算所述顆粒測量前值和所述顆粒測量后值的差判斷所述激光退火機(jī)的機(jī)臺(tái)內(nèi)部的潔凈度是否合格。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:所述顆粒測量前值和所述顆粒測量后值的差和所述激光退火機(jī)的機(jī)臺(tái)內(nèi)部的潔凈度成反比。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:通過所述方塊電阻阻值和預(yù)設(shè)值的差來判斷所述激光退火機(jī)的激光溫度的穩(wěn)定性是否合格。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:所述方塊電阻阻值和所述預(yù)設(shè)值的差越小,所述激光退火機(jī)的激光溫度的穩(wěn)定性越高。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:所述第一功率值的范圍為800W到1000W。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:所述第一功率值為900W。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:所述第二功率值的范圍為2700W到3300W。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:所述第一功率值為3000W。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光退火機(jī)的監(jiān)控方法,其特征在于:所述快速熱退火的方法為脈沖激光快速退火、脈沖電子束快速退火、離子束快速退火或者連續(xù)波快速激光退火。
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H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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