[發明專利]品質評價方法、信息記錄介質、光盤裝置和記錄再現系統無效
| 申請號: | 201410042437.1 | 申請日: | 2014-01-28 |
| 公開(公告)號: | CN103971710A | 公開(公告)日: | 2014-08-06 |
| 發明(設計)人: | 森本義謙;江藤宗一郎;渡邊康一 | 申請(專利權)人: | 日立民用電子株式會社;日立樂金資料儲存股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B20/10 | 分類號: | G11B20/10 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 品質 評價 方法 信息 記錄 介質 光盤 裝置 再現 系統 | ||
技術領域
本發明涉及通過對光信息記錄介質照射光而再現信息的光信息再現裝置的品質評價方法、光盤裝置、記錄再現系統和適用于進行該品質評價的信息記錄介質。
背景技術
當前,作為光信息記錄介質的光盤,CD(compact Disc:高密度光盤)、DVD(Digital Versatile Disc:數字多功能光盤)、BD(Blu-ray Disc:藍光光盤)、BDXLTM等已實現商品化并得到廣泛普及。在這些光盤介質中存在作為只讀型的ROM(Read Only Memory)型光盤、作為可記錄型的R(Recordable)型光盤、作為可擦寫型的RE(Rewritable)型光盤等各種各樣的種類。
光盤中信息的記錄再現通過對光盤介質照射激光來進行。信息的記錄通過利用激光的熱而形成記錄膜材料的狀態發生了變化的區域來進行。該狀態發生了變化的區域被稱為標記(mark),未使狀態發生變化的區域被稱為空白區(space,空區)。利用這些標記與空白區的組合在記錄層記錄信號。為了實現這樣的記錄,光盤介質的記錄膜使用相變化材料、有機色素、無機材料等形成的合金和氧化物等。在信息的再現時,對記錄有信號的記錄層照射功率比記錄時低的激光,根據標記與空白區的反射光量的不同而讀取記錄信號。
因為光盤是介質可更換的存儲器,所以光盤介質與光盤裝置的組合會頻繁地變化。因此,光盤裝置會根據當前的組合相應地進行記錄再現的調整。例如,在記錄時根據介質相應地調整記錄功率和記錄中使用的發光波形。此外,為了使記錄再現時的光斑為最佳的狀態,還進行物鏡、準直透鏡、透鏡傾斜等的調整。
在光盤領域,為了實施這些調整,人們提出了對再現信號品質進行評價的各種指標。作為常用的指標,有SER(Symbol Error Rate:誤符號率)、BER(Byte Error Rate:誤字節率)、bER(bit Error Rate:誤比特率)等,它們是在光通信領域也使用的譯碼結果中Symbol(符號,碼元)、Byte(字節)、bit(比特)的錯誤率。此外,還存在抖動(Jitter)等作為對信號的相對于再現時鐘的時間波動(搖擺)量進行評價的指標。除上述常用的指標之外,人們還提出了大量的基于光盤的再現信號處理系統的評價指標。對于BD,在非專利文獻1中公開了Limit Equalizer Jitter(限幅均衡器抖動),在非專利文獻2中公開了SAM(Sequenced amplitude margin:序列振幅余量)。Limit Equalizer Jitter是利用在再現信號處理中使用的Limit Equalizer(限幅均衡器)對再現信號進行處理而得到的結果中的Jitter。SAM是對BD應用PRML(Partial Response Maximum Likelihood:局部響應最大似然)的再現信號處理的情況下,根據目標信號波形和錯誤信號波形對再現信號波形的錯誤難度(誤碼難度)進行評價的指標。此外,對于BDXLTM,在專利文獻1中公開了i-MLSE(integrated-Maximum Likelihood Sequence Error Estimation:集成最大似然序列誤差估計),在專利文獻2中公開了L-SEAT(run-length-Limited Sequence Error for Adaptive Target:自適應目標的游程長度受限序列誤差)。i-MLSE、L-SEAT是PRML的再現信號處理中的、使用標準偏差將再現信號波形相對于目標信號波形的誤差量的分布定量化而得到的指標。在光盤中使用這些指標對再現信號品質進行評價,實施記錄再現時的調整。
此處,當在光盤上記錄數據并長期保存時,需要定期地對整個光盤(即光盤整個面)進行評價以確認所記錄的數據的品質是否發生了經時劣化。根據評價結果,在信號品質比規定的標準差的情況下,需要進行將數據轉移至新光盤等的操作。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:US2010/0002556號公報
專利文獻2:US2010/0260025號公報
非專利文獻
非專利文獻1:Japanese Journal of Applied Physics Vol.39,2000,pp.819-823
非專利文獻2:Japanese Journal of Applied Physics Vol.45,No.2B,2006,pp.1061-1065
發明內容
發明所要解決的技術問題
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