[發明專利]一種去除水中抗生素的方法

無效

• 申請號: 201410042276.6
• 申請日: 2014-01-28
• 公開（公告）號: CN103739134A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 郭洪光;高乃云;楊一瓊;王群;張靜
• 申請（專利權）人: 四川中潔諾環保科技有限公司
• 主分類號: C02F9/08
• 分類號: C02F9/08
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 牟永林

1.一種去除水中抗生素的方法，其特征在于一種去除水中抗生素的方法具體是按以下步驟完成的：

一、將過硫酸鈉與預處理的水混合：將過硫酸鈉和預處理的水加入到水槽中，在常溫和攪拌速度為160r/min～250r/min的條件下攪拌20min～45min，得到過硫酸鈉/預處理的水混合溶液；

步驟一中所述的預處理的水中抗生素的濃度為5mg/L～100mg/L；

步驟一中所述的預處理的水中抗生素為青霉素、阿莫西林、環丙沙星、氧氟沙星、羅紅霉素、克拉霉素、丁氨卡那霉素、二性霉素、四環素類和氯霉素類中的一種或幾種的混合物；

步驟一中所述的過硫酸鈉的質量與預處理的水的質量比為1:(1000～10000)；

二、調節pH值：在攪拌速度為150r/min～200r/min的條件下使用0.1mol/L～100mol/L的高氯酸和0.1mol/L～100mol/L的氫氧化鈉溶液將過硫酸鈉/預處理的水混合溶液的pH值調節至6.5～7.5，得到調節pH值后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液；

三、使用紫外光照射水體：在溫度為20℃～60℃的條件下使用水泵將調節pH值后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液打入紫外降解裝置中，經過紫外光照射后再回流至水槽中，循環反應15min～120min，得到紫外光處理后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液；

步驟三所述的紫外光降解裝置的紫外光波長為200nm～400nm；

四、加入硫代硫酸鈉溶液：將1mmol/L～100mol/L的硫代硫酸鈉溶液加入到紫外光處理后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液中反應15min～120min，得到去除水中抗生素的水；

步驟四所述的硫代硫酸鈉溶液的體積與紫外光處理后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液的體積比為1:(1000～10000)。

2.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟一中將過硫酸鈉和預處理的水加入到水槽中，在常溫和攪拌速度為200r/min～250r/min的條件下攪拌30min～45min，得到過硫酸鈉/預處理的水混合溶液。

3.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟一中所述的預處理的水中抗生素的濃度為5mg/L～80mg/L。

4.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟一中所述的過硫酸鈉的質量與預處理的水的質量比為1:(1000～8000)。

5.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟二中在攪拌速度為180r/min～200r/min的條件下使用0.1mol/L～10mol/L的高氯酸和0.1mol/L～10mol/L的氫氧化鈉溶液將過硫酸鈉/預處理的水混合溶液的pH值調節至6.5～7，得到調節pH值后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液。

6.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟三中在溫度為30℃～55℃的條件下使用水泵將調節pH值后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液打入紫外降解裝置中，經過紫外光照射后再回流至水槽中，循環反應30min～100min，得到紫外光處理后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液。

7.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟三所述的紫外光降解裝置的紫外光波長為250nm～400nm。

8.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟三所述的紫外光降解裝置的紫外光波長為370nm～400nm。

9.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟四中將5mmol/L～80mol/L的硫代硫酸鈉溶液加入到紫外光處理后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液中反應30min～100min，得到去除水中抗生素的水。

10.根據權利要求1所述的一種去除水中抗生素的方法，其特征在于步驟四所述的硫代硫酸鈉溶液的體積與紫外光處理后的過硫酸鈉/預處理的水混合溶液的體積比為1:(1000～8000)。