[發明專利]含有聚酰亞胺粉體消光劑的多層聚酰亞胺膜及其制造方法有效
| 申請號: | 201410041815.4 | 申請日: | 2014-01-28 |
| 公開(公告)號: | CN104553183B | 公開(公告)日: | 2017-02-15 |
| 發明(設計)人: | 林志維;羅吉歡;戴世安 | 申請(專利權)人: | 達邁科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B27/06 | 分類號: | B32B27/06;B32B27/18;B32B27/00;B32B15/08;C08G73/10;C08K3/04;C08L79/08;H05K9/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司72002 | 代理人: | 張海濤,于輝 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含有 聚酰亞胺 粉體消光劑 多層 及其 制造 方法 | ||
1.一種多層聚酰亞胺膜,包括:
至少兩層的聚酰亞胺層相互堆疊,其中,各聚酰亞胺層包含聚酰亞胺高分子聚合物,其由實質上等摩爾比例的二胺化合物及二酐化合物反應而形成,且至少一層的聚酰亞胺層還包含聚酰亞胺粉體,分布于該聚酰亞胺高分子聚合物中,其中,以該層的總重量為基礎,該聚酰亞胺粉體的比例為約20至50wt%;及
其中,該多層聚酰亞胺膜的至少一外側表面的60度光澤值為約5以下。
2.如權利要求1所述的多層聚酰亞胺膜,其中,該聚酰亞胺層的至少一層還包括顏料。
3.如權利要求2所述的多層聚酰亞胺膜,其中,該顏料占該層總重量的約4至9wt%。
4.如權利要求2所述的多層聚酰亞胺膜,其中,該顏料是碳黑。
5.如權利要求1所述的多層聚酰亞胺膜,其中,該聚酰亞胺粉體由二胺基二苯醚(ODA)及均苯四甲酸二酐(PMDA)反應而形成。
6.如權利要求5所述的多層聚酰亞胺膜,其中,二胺基二苯醚及均苯四甲酸二酐的單體摩爾比為約1∶0.950至1∶0.995。
7.如權利要求1所述的多層聚酰亞胺膜,其中,該聚酰亞胺粉體具有約2至10微米的平均粒徑。
8.一種電磁波屏蔽結構,包含如權利要求1所述的多層聚酰亞胺膜,及金屬層,設于該多層聚酰亞胺膜的最外側表面。
9.一種雙層聚酰亞胺膜,包括:
第一層,包含聚酰亞胺高分子聚合物及聚酰亞胺粉體,該聚酰亞胺粉體分布于該聚酰亞胺高分子聚合物中,且占該第一層總重量的約20至50wt%;及
第二層,堆疊于該第一層上,該第二層包含聚酰亞胺高分子聚合物及聚酰亞胺粉體,該聚酰亞胺粉體分布于該聚酰亞胺高分子聚合物中,且占該第二層總重量的約20wt%以下;
其中,該第一、第二層中的至少一層還包括顏料。
10.如權利要求9所述的雙層聚酰亞胺膜,其中,該顏料是碳黑。
11.如權利要求9所述的雙層聚酰亞胺膜,其中,該顏料占該層的總重量的約4至9wt%。
12.一種三層聚酰亞胺膜,包括第一層、第二層及第三層,分別由聚酰亞胺高分子聚合物所形成,該第二層夾置于該第一及第三層中間,該第一、第三層分別包含聚酰亞胺粉體,且所含的聚酰亞胺粉體系占該層總重量的約20至50wt%,且該三層中的至少一層還包括一顏料。
13.如權利要求12所述的三層聚酰亞胺膜,其中,該顏料是碳黑。
14.如權利要求12所述的三層聚酰亞胺膜,其中,該顏料占該層的總重量的約4至9wt%。
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