[發明專利]一種含磷硅嵌段共聚物及其制備方法

有效

• 申請號: 201410041811.6
• 申請日: 2014-01-28
• 公開（公告）號: CN103819634A
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發明（設計）人: 戴李宗;邱武輝;袁叢輝;羅偉昂;許一婷;曾碧榕;曹瑩;何凱斌;劉新瑜
• 申請（專利權）人: 廈門大學
• 主分類號: C08F293/00
• 分類號: C08F293/00;C08F8/40
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所(普通合伙) 35200
• 代理人: 陳永秀;馬應森

1.一種含磷硅嵌段共聚物，其特征在于其化學結構式如下：

式中，R為異丁基，R’為-P-CH2-CH(OH)-和HOCH2CH(P)-兩種結構，這是由于DOPO的P-H與環氧基可以發生α加成和β加成產生的，R’的結構式如下：

或

2.如權利要求1所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

1）PMAiBuPOSS_m大分子鏈轉移劑的合成

將甲基丙烯酰氧丙基七異丁基POSS，二硫代苯甲酸枯基酯及偶氮二異丁氰溶于2～4倍體積甲苯中，經連續凍融脫氣后在氬氣保護下聚合反應，再經液氮猝冷停止反應，以甲醇∶乙酸乙酯為7∶1為沉淀劑反復沉淀即得產物PMAiBuPOSS_m大分子鏈轉移劑；

2）PMAiBuPOSS_m-b-PGMA_n兩嵌段的合成

取步驟1）合成的PMAiBuPOSS_m大分子鏈轉移劑和甲基丙烯酸縮水甘油酯及偶氮二異丁氰溶于2～4倍體積四氫呋喃中，經連續凍融脫氣后在氬氣保護下聚合反應，再經液氮猝冷停止反應，甲醇為沉淀劑反復沉淀即得產物PMAiBuPOSS_m-b-PGMA_n兩嵌段；

3）含磷硅嵌段共聚物PMAiBuPOSS_m-b-PGMA_n-g-DOPO_q的合成

取步驟2）合成的PMAiBuPOSS_m-b-PGMA_n兩嵌段、9，10-二氫-9-氧雜-10-磷雜菲-10-氧化物溶于1～2倍體積四氫呋喃中，在氬氣保護下于裝有磁子攪拌和回流裝置的反應器中反應，再用沉淀劑沉淀，即得含磷硅嵌段共聚物。

3.如權利要求2所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于在步驟1）中，所述甲基丙烯酰氧丙基七異丁基POSS、二硫代苯甲酸枯基酯及偶氮二異丁氰的摩爾比為（10～30）∶1∶0.2。

4.如權利要求2所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于在步驟1）和2）中，所述脫氣為3～5次。

5.如權利要求2所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于在步驟1）中，所述聚合反應的溫度為60～80℃，聚合反應的時間為24～48h。

6.如權利要求2所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于在步驟2）中，所述甲基丙烯酸縮水甘油酯∶PMAiBuPOSS_m大分子鏈轉移劑∶偶氮二異丁氰的摩爾比為（100～300）∶1∶0.1。

7.如權利要求2所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于在步驟2）中，所述聚合反應的溫度為60～70℃，聚合反應的時間為24～48h。

8.如權利要求2所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于在步驟3）中，所述9，10-二氫-9-氧雜-10-磷雜菲-10-氧化物∶PMAiBuPOSS_m-b-PGMA_n兩嵌段的摩爾比為0.5～2。

9.如權利要求2所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于在步驟3）中，所述反應的溫度為70～90℃，反應的時間為12～24h。

10.如權利要求2所述一種含磷硅嵌段共聚物的制備方法，其特征在于在步驟3）中，所述沉淀劑選自乙醇、甲醇、蒸餾水中的一種；所述沉淀為3次。