[發明專利]用于多焦點超聲治療的裝置和方法

有效

• 申請號: 201410041501.4
• 申請日: 2014-01-28
• 公開（公告）號: CN104027893B
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: C·D·艾姆利
• 申請（專利權）人: 奧賽拉公司
• 主分類號: A61N7/00
• 分類號: A61N7/00
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 武晨燕;遲姍

1.一種從單個超聲換能器同時聚焦多個間隔開的熱凝聚點以用于美容處理的美學成像與處理系統，所述系統包含：

超聲探頭，其被配置為用于對一個或多個焦深處的多個位置處的組織進行超聲成像與超聲處理，所述超聲探頭包含：

單個超聲換能器模塊，其被配置為用于耦合至所述超聲探頭，

其中所述單個超聲換能器模塊包含單個超聲換能器，所述單個超聲換能器被配置為借助包含振幅調制、極化和相位偏移的群組中的至少一個將產生多個間隔開的熱凝聚點的超聲處理施加在所述一個或多個焦深處的所述多個位置處的組織，

其中所述單個超聲換能器被配置為通過應用治療超聲而在組織中產生同時的多個間隔開的熱凝聚點，

第一開關，其可操作地控制超聲成像功能，以便提供超聲成像；

第二開關，其可操作地控制超聲處理功能，以便提供所述超聲處理；以及

移動機構，其被配置為以至少一個序列的各個熱美容處理區域引導超聲處理；

其中所述單個超聲換能器模塊被配置為可操作地耦合至所述第一開關、所述第二開關和所述移動機構中的至少一個；

控制模塊，所述控制模塊包含處理器，和

顯示器，所述顯示器包含用于控制所述單個超聲換能器模塊的圖形用戶界面，

其中所述單個換能器模塊包含單個壓電元件，其中所述單個壓電元件的多個部分被配置為響應于施加到所述單個換能器模塊的電場而產生多個對應的壓電元件變化，

其中所述極化包括從所述單個壓電元件的多個部分提供的不同的極化矩，

其中所述單個壓電元件的多個部分的相位偏移通過以不同相位施加到所述單個壓電元件的多個部分的對應信號而被激勵。

2.根據權利要求1所述的美學成像與處理系統，其中所述多個位置被布置為基本線性序列，位于所述熱美容處理區域內。

3.根據權利要求1所述的美學成像與處理系統，其中第一組位置位于第一美容處理區域內，而第二組位置位于第二美容處理區域內，所述第一區域不同于所述第二區域。

4.根據權利要求3所述的美學成像與處理系統，其中所述第一美容處理區域包含所述第一組位置的基本線性序列，而所述第二美容處理區域包含所述第二組位置的基本線性序列。

5.根據權利要求1所述的美學成像與處理系統，其中所述單個換能器模塊被配置為應用使用振幅調制的超聲處理，由此所述單個換能器模塊的所述多個部分被配置為以多個聲強度的振幅發射超聲處理，其中第一振幅不同于第二振幅。

6.根據權利要求1所述的美學成像與處理系統，其中所述單個換能器模塊被配置為應用超聲處理相位偏移，由此所述單個換能器模塊的所述多個部分被配置為以多個聲強度的相位發射超聲處理，其中第一相位不同于第二相位。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的美學成像與處理系統，其中所述單個換能器模塊被配置為：

應用使用振幅調制的超聲處理，由此所述單個換能器模塊的所述多個部分被配置為以多個聲強度的振幅發射超聲處理，其中第一振幅不同于第二振幅；以及

應用超聲處理相位偏移，由此所述單個換能器模塊的所述多個部分被配置為以多個聲強度的相位發射超聲處理，其中第一相位不同于第二相位。

8.根據權利要求7所述的美學成像與處理系統，其中所述多個聲強度的相位包含離散的相位值。

9.根據權利要求1至6中的任一項所述的美學成像與處理系統，其中所述多個壓電元件變化包含元件膨脹和元件收縮中的至少一個。

10.根據權利要求1-6中任一項所述的美學成像與處理系統，其中所述單個換能器模塊的至少一部分被配置為以兩個或更多個聲強度的振幅發射超聲處理，并且其中由所述單個換能器模塊的所述至少一部分發射的超聲處理的振幅隨著時間變化。