[發明專利]含有粉狀呈色消光劑的聚酰亞胺膜及其制造方法有效
| 申請號: | 201410040314.4 | 申請日: | 2014-01-27 |
| 公開(公告)號: | CN103965626B | 公開(公告)日: | 2017-04-12 |
| 發明(設計)人: | 林志維;楊武勇 | 申請(專利權)人: | 達邁科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C08L79/08 | 分類號: | C08L79/08;C08K3/04;C08K3/22;B32B15/08;B32B27/18 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司72002 | 代理人: | 過曉東 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含有 粉狀 呈色消光劑 聚酰亞胺 及其 制造 方法 | ||
1.一種粉狀呈色消光劑,包括復數個顆粒,各顆粒包括:
一聚酰亞胺,由約為等摩爾比例的二胺化合物及二酐化合物反應所形成;以及
一色料,與該聚酰亞胺混合,且部分色料位于呈色消光劑顆粒的外側表面。
2.如權利要求1所述的粉狀呈色消光劑,其中,以該消光劑的總重量計算,該色料系占10wt%至40wt%。
3.如權利要求1所述的粉狀呈色消光劑,其中,該色料系黑色色料、白色色料、紅色色料、橙色色料、黃色色料、綠色色料、藍色色料、或紫色色料。
4.如權利要求1所述的粉狀呈色消光劑,其中,該色料為黑色色料,是選自由碳黑、氧化鈷、鐵錳鉍黑、鐵錳氧化物尖晶石黑、(Fe,Mn)2O3黑、銅鉻鐵礦黑尖晶石、燈黑、骨黑、骨灰、骨炭、赤鐵礦、黑色氧化鐵、云母狀氧化鐵、黑色錯合無機色料(CICP)、CuCr2O4黑、(Ni,Mn,Co)(Cr,Fe)2O4黑、苯胺黑、苝黑、蒽醌黑、鉻綠黑赤鐵礦、鉻鐵氧化物所成群組的一種或多種。
5.如權利要求1所述的粉狀呈色消光劑,其中,該色料為白色色料,是選自由TiO2、Al2O3、CaCO3、CaSO4、SiO2、BN、AlN、黏土、氧化鋯、氧化鋅、氧化鋁、硫化鋅、硫酸鋇所成群組的一種或多種。
6.如權利要求1所述的粉狀呈色消光劑,其中,
該二胺化合物,是選自由二胺基二苯醚(ODA)、苯二胺(PDA)、2,2’-雙(三氟甲基)聯苯胺(TFMB)所成群組的一種或多種;以及
該二酐化合物,是選自由均苯四甲酸二酐(PMDA)、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐(3,3',4,4'-BPDA)及2,2-雙[4-(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐(BPADA)所成群組的一種或多種。
7.如權利要求1所述的粉狀呈色消光劑,其中,該呈色消光劑具有平均粒徑3至8微米。
8.一種呈色聚酰亞胺膜,包括:
聚酰亞胺高分子聚合物,構成該膜的主結構,其系由約為等摩爾比例的二胺化合物及二酐化合物反應而形成;以及
如權利要求1至7中任一項所述的粉狀呈色消光劑,為分布于該聚酰亞胺膜中。
9.如權利要求8所述的呈色聚酰亞胺膜,其中,以該呈色聚酰亞胺膜的總重量計算,該呈色消光劑占5wt%至20wt%。
10.如權利要求8所述的呈色聚酰亞胺膜,其60度光澤值為40以下。
11.如權利要求8所述的呈色聚酰亞胺膜,其消光系數為0.15μm-1以上。
12.如權利要求8所述的呈色聚酰亞胺膜,其體積電阻率為1×1015Ω-cm以上。
13.如權利要求8所述的呈色聚酰亞胺膜,其60度光澤值為40以下,消光系數為0.15μm-1以上,以及體積電阻率為1×1015Ω-cm以上。
14.一種電磁波屏蔽結構,包括:
如權利要求8所述的呈色聚酰亞胺膜;以及
一金屬層,設于該呈色聚酰亞胺膜的至少一最外側表面。
15.如權利要求14所述的電磁波屏蔽結構,其中該金屬層以鋁(Al)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鐵(Fe)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鈀(Pd)、鉬(Mo)或其中任一金屬合金所組成。
16.一種呈色聚酰亞胺膜的制造方法,包括:
由二胺化合物及二酐化合物反應而形成聚酰胺酸溶液;
添加如權利要求1所述的粉狀呈色消光劑至該聚酰胺酸溶液中而形成一混合溶液;以及
將該混合溶液涂布于一支持體上,并加熱成膜。
17.如權利要求16項所述的制造方法,其中,以該呈色聚酰亞胺膜的總重量計算,該呈色消光劑的含量為5wt%至20wt%。
18.如權利要求16項所述的制造方法,其中,該呈色消光劑的色料為黑色色料、白色色料、紅色色料、或藍色色料。
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