[發(fā)明專利]一種建筑裝飾面磚

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410040226.4
• 申請日: 2014-01-28
• 公開（公告）號: CN103741912A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發(fā)明（設計）人: 曹祖平
• 申請（專利權）人: 常熟市輕工裝飾材料有限公司
• 主分類號: E04F13/075
• 分類號: E04F13/075
• 代理公司: 蘇州廣正知識產(chǎn)權代理有限公司 32234
• 代理人: 張漢欽

技術領域

本發(fā)明涉及瓷磚設計領域，特別是涉及一種建筑裝飾面磚。

背景技術

瓷磚在世界范圍內(nèi)都擁有比較悠久的歷史，如今更是一種非常普遍的裝飾材料。在當前不斷求新求變的年代里，人們對裝飾用瓷磚的要求越來越高，這就迫使瓷磚生產(chǎn)廠商加快新產(chǎn)品開發(fā)的步伐，不斷推出新產(chǎn)品，以適應消費者的不同需要。

瓷磚經(jīng)常用在內(nèi)外的墻壁上進行裝飾，因為是利用水泥豎直貼合在墻壁的表面，而且普通瓷磚的自重較大，因此最大的問題是瓷磚貼合的牢固性。使用時間長的建筑表面經(jīng)常會發(fā)現(xiàn)缺漏的瓷磚，而且瓷磚掉落的時候也給人們帶來了一定的安全隱患。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術問題是提供一種建筑裝飾面磚，要求重量要輕，隔熱效果要好，而且施工時附著力好，不容易脫落。

為解決上述技術問題，本發(fā)明采用的一個技術方案是：提供一種建筑裝飾面磚，包括：表面釉質(zhì)層和板狀基體，所述表面釉質(zhì)層覆蓋在板狀基體的上表面，所述板狀基體的上表面為一個水平面，所述板狀基體的下表面上設置有梯形槽，所述梯形槽的開口尺寸小于梯形槽底部尺寸，所述板狀基體內(nèi)設置有一排大小統(tǒng)一的通孔，所述通孔設置在梯形槽的上方位置。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述梯形槽貫穿于板狀基體的下表面。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述板狀基體的下表面上至少設置有三條梯形槽，所述梯形槽之間相互平行設置。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述通孔與板狀基體的側面平行設置。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述梯形槽與通孔之間平行或者垂直設置。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明指出的一種建筑裝飾面磚，特設了梯形槽，可牢牢鎖住水泥，使用數(shù)年時間也不易脫落，一排通孔有效降低了整體的重量，而且隔熱和隔音效果好，適用范圍廣泛。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中：

圖1是本發(fā)明一種建筑裝飾面磚一較佳實施例的結構示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、表面釉質(zhì)層，2、板狀基體。

具體實施方式

下面將對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

請參閱圖1，本發(fā)明實施例包括：

一種建筑裝飾面磚，包括：表面釉質(zhì)層1和板狀基體2，所述表面釉質(zhì)層1覆蓋在板狀基體2的上表面，所述板狀基體2的上表面為一個水平面，所述板狀基體1的下表面上設置有梯形槽，所述梯形槽的開口尺寸小于梯形槽底部尺寸，所述板狀基體2內(nèi)設置有一排大小統(tǒng)一的通孔，所述通孔設置在梯形槽的上方位置。

本發(fā)明一種建筑裝飾面磚，所述梯形槽貫穿于板狀基體2的下表面，施工時水泥被擠入梯形槽內(nèi)，凝固后與板狀基體2連為一體，外部用力也難以脫落，耐用性好。

進一步的，所述板狀基體2的下表面上至少設置有三條梯形槽，牢固性好，所述梯形槽之間相互平行設置，互補干涉，但在施工時一起增加了與墻面水泥的貼合程度。

進一步的，所述通孔與板狀基體2的側面平行設置，便于施工時相鄰兩塊面磚之間的配合。

進一步的，所述梯形槽與通孔之間平行或者垂直設置。

綜上所述，本發(fā)明指出的一種建筑裝飾面磚，與普通的面磚相比，重量有所降低，而與墻面貼合的牢固程度增加，經(jīng)久耐用而不易脫落，使用的安全性高，隔熱和隔音的效果好。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其它相關的技術領域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。