[發明專利]等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法有效
| 申請號： | 201410039245.5 | 申請日： | 2014-01-27 |
| 公開（公告）號： | CN103789712A | 公開（公告）日： | 2014-05-14 |
| 發明（設計）人： | 張迎晨 | 申請（專利權）人： | 中原工學院 |
| 主分類號： | C23C4/04 | 分類號： | C23C4/04;C23C4/12;C23C4/18;B22F1/00 |
| 代理公司： | 鄭州優盾知識產權代理有限公司 41125 | 代理人： | 張紹琳;孫詩雨 |
| 地址： | 451191 河南省*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 噴涂 高分子 復合 ptc 體制 雙面 鋁箔 方法 | ||
1.一種等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法，其特征在于包括以下步驟：（1）制備高分子復合PTC粉體；（2）通過加熱裝置將鋁箔加熱至100-300℃，利用等離子體噴涂設備在鋁箔上涂敷步驟（1）制得的高分子復合PTC粉體，在鋁箔上形成高分子復合PTC粉體涂層；（3）烘烤步驟（2）涂敷過高分子復合PTC粉體涂層的鋁箔，經過再結晶工藝得到雙面撓性鋁箔。
2.根據權利要求1所述的等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法，其特征在于：所述步驟（1）高分子為聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯、聚酯、聚偏氟乙烯、聚酰亞胺、聚酰胺、環氧樹脂、聚氨酯、聚醚或丙烯酸酯。
3.根據權利要求1所述的等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法，其特征在于：所述步驟（1）PTC粉體為炭黑、碳纖維、石墨片、銀、鋁片、銀包鋁納米顆粒、鈦酸鋇微粉、含鉛質量百分數為0.3-1.5%的鈦酸鋇微粉或含鍶質量百分數為0.5-2.2%的鈦酸鋇微粉。
4.根據權利要求1所述的等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法，其特征在于：所述步驟（1）中高分子與PTC粉體以1:10-10:1的比例進行復合，采用螺桿機或球磨機進行共混復合。
5.根據權利要求1所述的等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法，其特征在于：所述步驟（2）中鋁箔為電解鋁箔或熱壓鋁箔，鋁箔的厚度為3-70μm。
6.根據權利要求1所述的等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法，其特征在于：所述步驟（2）中鋁箔上形成的高分子復合PTC粉體涂層的厚度為1-10μm。
7.根據權利要求1所述的等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法，其特征在于：所述步驟（3）中再結晶工藝過程為將步驟（2）制得的鋁箔在龍窯中依據不同的高分子材料的結晶溫度進行再結晶，各溫度區加熱時間為10-20分鐘。
8.根據權利要求1-7任一所述的等離子體噴涂高分子復合PTC粉體制備雙面撓性鋁箔的方法，其特征在于：所述步驟（3）制得的雙面撓性鋁箔的厚度為5-90μm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
