[發明專利]非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法

有效

• 申請號: 201410034468.2
• 申請日: 2014-01-24
• 公開（公告）號: CN103806043A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 白書欣;葉益聰;張虹;朱利安
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科學技術大學
• 主分類號: C25D3/66
• 分類號: C25D3/66;C25D5/18
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所 43008
• 代理人: 趙洪

1.一種非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，包括以下步驟：

（1）配制混鹽：配制NaCl-KCl-CsCl-IrCl₃混鹽，按質量分數計，NaCl為10%～30%，KCl為10%～30%，CsCl為40%～70%，IrCl₃為1%～15%；

（2）鍍件前處理：取一鍍件進行常規的脫脂、酸洗、水洗、有機溶劑洗和烘干處理，得到鍍件基體；

（3）脈沖熔鹽電鍍：將步驟（1）得到的NaCl-KCl-CsCl-IrCl₃混鹽放入電鍍槽中，加熱至電鍍溫度，得到NaCl-KCl-CsCl-IrCl₃熔鹽；然后將步驟（2）得到的鍍件基體作為陰極，與陽極共同插入到NaCl-KCl-CsCl-IrCl₃熔鹽中，使陰極完全浸入NaCl-KCl-CsCl-IrCl₃熔鹽中，在電鍍溫度下先保溫，再進行脈沖熔鹽電鍍；

（4）鍍件清洗：脈沖熔鹽電鍍完成后，從NaCl-KCl-CsCl-IrCl₃熔鹽中取出電極，在N₂或惰性氣體保護下冷卻至室溫，水洗、烘干，得到鍍覆有非柱狀晶組織銥涂層的鍍件。

2.根據權利要求1所述的非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，其特征在于，所述步驟（3）中，所述脈沖熔鹽電鍍的工藝條件為：電鍍溫度為580℃～700℃，峰值電流密度為50mA/cm²～800mA/cm²，脈沖頻率為1Hz～1000Hz，工作比為10%～50%。

3.根據權利要求2所述的非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，其特征在于，所述步驟（3）中，所述保溫的時間為5min～10min。

4.根據權利要求1、2或3所述的非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，其特征在于，所述步驟（3）中，所述陽極為活性銥陽極或惰性石墨陽極。

5.根據權利要求1、2或3所述的非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，其特征在于，所述陽極形狀的選擇以使陰極表面的電力線分布均勻為準。

6.根據權利要求5所述的非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，其特征在于，所述陰極為平板狀時，所述陽極采用平板狀；所述陰極為圓柱狀時，所述陽極采用以陰極為中心的環形形狀。

7.根據權利要求1、2或3所述的非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，其特征在于，所述步驟（2）中，所述鍍件為難熔金屬、石墨或C/C復合材料。

8.根據權利要求7所述的非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，其特征在于，所述難熔金屬包括錸或鉬。

9.根據權利要求1、2或3所述的非柱狀晶組織銥涂層的熔鹽電鍍制備方法，其特征在于，所述步驟（4）中，所述惰性氣體為Ar。