[發明專利]一種凹凸紋理人造石的制備方法有效
| 申請號： | 201410032171.2 | 申請日： | 2014-01-23 |
| 公開（公告）號： | CN104803626B | 公開（公告）日： | 2017-03-29 |
| 發明（設計）人： | 任奎浩;吳文鴻 | 申請（專利權）人： | 吳文鴻 |
| 主分類號： | C04B26/02 | 分類號： | C04B26/02;B28B1/00 |
| 代理公司： | 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙)11411 | 代理人： | 曾少麗 |
| 地址： | 200436 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 凹凸 紋理 人造石 制備 方法 | ||
1.一種凹凸紋理人造石的制備方法，其特征是，包括如下步驟：
1）模具上澆注第一透明料漿；
2）具有褶皺的分離性膜鋪滿步驟1）所述的第一透明料漿；
3）在所述的第一透明料漿固化后，澆注第二料漿，抽真空，固化定型；
所述的第一透明料漿包括如下原料：透明粘結劑、填充材料、促進劑、固化劑、偶聯劑、著色劑；所述的第二料漿包括如下原料：粘結劑、填充材料、促進劑、固化劑、偶聯劑、著色劑。
2.如權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述的分離性膜為離型膜或轉印膜。
3.如權利要求2所述的制備方法，其特征是：所述的離型膜為有機硅涂覆離型膜或氟樹脂涂覆離型膜。
4.如權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述的步驟1）中的第一透明料漿添加閃光粉。
5.如權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述的步驟3）中，在第一透明料漿固化后，剝離分離性膜，然后澆注第二料漿。
6.如權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述的步驟2）中的分離性膜的尺寸大于或等于模具尺寸。
7.如權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述步驟1）中，所述的第一透明料漿為有色料漿；所述澆注通過淋涂、刮涂或噴涂方式實現。
8.如權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述步驟3）中，所述澆注通過噴涂方式實現。
9.如權利要求1所述的制備方法，其特征是：所述的步驟3）中，所述的第二料漿預先經抽真空處理。
10.根據上述任一項權利要求制備的凹凸紋理人造石。
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