[發明專利]用于蝕刻機臺的噴酸裝置無效
| 申請號： | 201410029986.5 | 申請日： | 2014-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN103787582A | 公開（公告）日： | 2014-05-14 |
| 發明（設計）人： | 吳前鋒 | 申請（專利權）人： | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類號： | C03C15/00 | 分類號： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 趙根喜;李昕巍 |
| 地址： | 201500 上海市金山區*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 蝕刻 機臺 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種噴酸裝置，用于蝕刻機臺，所述蝕刻機臺具有中央腔體和蝕刻腔室，且所述中央腔室與所述蝕刻腔室之間具有卷門，其特征在于，所述噴酸裝置包括：
酸性液體源，存儲有酸性液體；
連接管路，連接于所述酸性液體源以傳輸所述酸性液體；
噴射裝置，設置于所述連接管路末端，用以向所述卷門噴射所述酸性液體以避免在所述卷門上形成結晶。
2.如權利要求1所述的噴酸裝置，其中，所述噴酸裝置還包括控制裝置，連接于所述連接管路以控制所述噴射裝置的噴射動作。
3.如權利要求2所述的噴酸裝置，其中，所述連接管路上設置有氣動控制閥，所述氣動控制閥與所述控制裝置相連接以使所述控制裝置通過控制所述氣動閥的開啟與關閉來控制所述噴射裝置的噴射動作。
4.如權利要求1所述的噴酸裝置，其中，所述噴射裝置包括多個噴射口。
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