[發明專利]一種可降低行程的離子束加工方法

有效

• 申請號: 201410029914.0
• 申請日: 2014-01-22
• 公開（公告）號: CN103771729A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 戴一帆;周林;李圣怡;解旭輝;廖文林;史寶魯
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科學技術大學
• 主分類號: C03C19/00
• 分類號: C03C19/00
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所 43008
• 代理人: 趙洪;周長清

1.一種可降低行程的離子束加工方法，其特征在于，基于五軸加工設備，當加工所需的X軸和Y軸行程大于機床行程時，擺動A和B兩個旋轉軸來移動離子束加工點，利用極限行程進行加工，同時對旋轉軸和Z軸運動坐標進行修正，并對駐留時間進行修正。

2.根據權利要求1所述的可降低行程的離子束加工方法，其特征在于，具體步驟為：

（1）建立加工路徑；根據待加工光學元件的形狀和尺寸建立離子束修形加工路徑；其中，設拋光路徑上第i點P_i在工件坐標系的坐標為xwiywi;]]>

（2）計算加工路徑上各點的駐留時間和機床運動坐標；

（3）修正機床運動坐標；

（4）數控修形加工：根據步驟（3）計算得到的加工點機床運動坐標，對待加工光學元件的光學表面進行數控修形加工。

3.根據權利要求2所述的可降低行程的離子束加工方法，其特征在于，所述步驟（2）的具體步驟為：

（2.1）計算加工路徑上各點P_i處的加工駐留時間

（2.2）計算加工路徑上各點P_i處的機床運動坐標：

x0iy0iz0iα0iβ0i;]]>

計算公式為：

α0i=-tan-1(nyinzi)β0i=sin-1nxi---(1)]]>

和

x0i=xwi-l·nxiy0i=ywi-l·nyiz0i=zwi+l-l·nzi---(2)]]>

其中，nxinyinzi]]>為加工點P_i處的法向量，l為加工靶距，為加工點P_i在工件坐標系的z坐標值；當被加工光學零件為平面時，nxinyinzi≡001,]]>此時，α0i≡0,β0i≡0.]]>