[發明專利]一種適用于任意光的超高透射率減色濾波器及其制備方法無效
| 申請號： | 201410029125.7 | 申請日： | 2014-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN103777264A | 公開（公告）日： | 2014-05-07 |
| 發明（設計）人： | 張冬仙;胡曉琳;孫理斌;葉鳴;徐越;史斌;蔣建中 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人： | 林松海 |
| 地址： | 310027 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 適用于 任意 超高 透射率 減色 濾波器 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種適用于任意光的超高透射率減色濾波器，其特征在于，所述的超高透射率減色濾波器具有一個玻璃基片，在玻璃基片上設有一層Ag膜，所述的Ag膜厚范圍是20~30nm，在Ag膜上刻有周期性圓形小孔。
2.根據權利要求1所述的超高透射率減色濾波器，其特征在于，所述的超高透射率減色濾波器不依賴光源，在TE/TM偏振白光的照射下均有濾波作用。
3.根據權利要求1所述的超高透射率減色濾波器，其特征在于，所述的超高透射率減色濾波器的峰值透射率高達60~70%。
4.根據權利要求1所述的超高透射率減色濾波器，其特征在于，所述周期性圓形小孔的周期為120~372nm，占空比為0.5。
5.?一種適用于任意光的超高透射率減色濾波器的制備方法，其特征在于，在平整度小于一個光圈、粗糙度小于1nm的玻璃基片上用磁控濺射的方法鍍有一層超薄的Ag膜，膜厚為20~30nm，在Ag膜上刻有周期性圓形小孔。
6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述濾波器不依賴光源，在TE/TM偏振白光的照射下均有濾波作用。
7.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述濾波器的峰值透射率高達60~70%。
8.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述小孔的周期為120~372nm，占空比為0.5。
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