[發(fā)明專利]一種化合物半導(dǎo)體大面積氣相外延用圓環(huán)形噴口分布方式在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410029034.3 | 申請日: | 2014-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN103789825A | 公開(公告)日: | 2014-05-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張俊業(yè);劉鵬;左然;趙紅軍;魏武;張國義;童玉珍 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司;北京大學(xué) |
| 主分類號: | C30B25/14 | 分類號: | C30B25/14 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 523518 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 化合物 半導(dǎo)體 大面積 外延 圓環(huán) 噴口 分布 方式 | ||
1.一種用于化合物半導(dǎo)體氣相外延(VPE)的氣體噴頭的同心圓環(huán)形噴口結(jié)構(gòu),其特征在于:三種不同的氣體即第一前驅(qū)物、第二前驅(qū)物和惰性氣體,分別通過輸運管道后,從平面狀噴頭的各自獨立的同心圓環(huán)形噴口噴出;利用其外環(huán)噴口噴出的惰性氣體,使其內(nèi)圓孔噴口噴出的第一前驅(qū)物氣體和第二前驅(qū)物氣體,在噴口附近(在進(jìn)入混合反應(yīng)區(qū)之前)保持完全被隔離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述噴頭的氣體噴口的排布方式之一,其特征在于:
每個第一前驅(qū)物噴口和第二前驅(qū)物噴口均帶有和其同心圓的外環(huán)惰性氣體噴口,其排布方式,沿橫向,按一行第一前驅(qū)物噴口、一行第二前驅(qū)物噴口的順序,輪流交替替、沿直線、平行、等距離、相鄰行交錯對應(yīng)、密集排布呈多數(shù)橫行;沿縱向,按一列第一前驅(qū)物噴口、一列第二前驅(qū)物噴口的順序,輪流交替、沿直線、平行、等距離、相鄰列交錯對應(yīng)、密集排布呈多數(shù)縱列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1和2所述噴頭的氣體噴口交叉密排結(jié)構(gòu),其特征在于:??
橫行第一前驅(qū)物的各噴口(或橫行第二前驅(qū)物的各噴口),沿縱向均隔一行一一對應(yīng),縱列第一前驅(qū)物的各噴口(或縱列第二前驅(qū)物的各噴口),沿橫向均隔一列一一對應(yīng),除噴頭邊緣外,每個第一前驅(qū)物噴口(或第二前驅(qū)物噴口)的周圍均有4個等距離的第二前驅(qū)物噴口(或第一前驅(qū)物噴口);并且,每個第一前驅(qū)物(或第二前驅(qū)物)噴口的周圍均有4個等距離的次近鄰第一前驅(qū)物(或第二前驅(qū)物)噴口。
4.在權(quán)利要求1所述噴頭的氣體噴口的交叉密排方式之二,其特征在于:
每個第一前驅(qū)物噴口均帶有和其同心圓的外環(huán)惰性氣體噴口,而每個第二前驅(qū)物噴口為單圓孔噴口,其排布方式,沿橫向,按一行第一前驅(qū)物噴口、一行第二前驅(qū)物噴口的順序,輪流交錯、沿直線、平行、等距離、相鄰行交錯對應(yīng)、密集排布呈多數(shù)橫行;沿縱向,按一列第一前驅(qū)物噴口、一列第二前驅(qū)物噴口的順序,輪流交替、沿直線、平行、等距離、相鄰列交錯對應(yīng)、密集排布呈多數(shù)縱列。
5.根據(jù)權(quán)利要求1和4所述噴頭的氣體噴口交叉密排結(jié)構(gòu),其特征在于:
橫行第一前驅(qū)物的各噴口(或橫行第二前驅(qū)物的各噴口),沿縱向均隔一行一一對應(yīng),縱列第一前驅(qū)物的各噴口(或縱列第二前驅(qū)物的各噴口),沿橫向均隔一列一一對應(yīng),除噴頭邊緣外,每個第一前驅(qū)物噴口的周圍均有4個第二前驅(qū)物氣體噴口,每個第二前驅(qū)物噴口的周圍均有4個第一前驅(qū)物氣體噴口;并且,每個第一前驅(qū)物(或第二前驅(qū)物)噴口的周圍均有4個等距離的次近鄰第一前驅(qū)物(或第二前驅(qū)物)噴口。
6.在權(quán)利要求1所述噴頭的氣體噴口的交叉密排方式之三,其特征在于:
第一前驅(qū)物和第三前驅(qū)物分別從各自的同心圓形噴口的內(nèi)圓孔噴出,惰性氣體則從其外環(huán)孔噴口噴出,而第二前驅(qū)物則從各自的單圓孔噴口噴出,其排布方式,沿橫向,分別按一行第一前驅(qū)物同心圓形噴口行、一行第二前驅(qū)物單圓孔噴口行、一行第三前驅(qū)物同心圓形噴口行、再一行第二前驅(qū)物單圓孔噴口行的順序,輪流交替、平行、相鄰行交錯對應(yīng)、密集排布;沿縱向,按一列第一前驅(qū)物同心圓形噴口和第三前驅(qū)物同心圓形噴口交替相間呈一列、一列第二前驅(qū)物單圓孔噴口呈一列的順序,輪流交替、平行、相鄰列交錯對應(yīng)、密集排布。
7.根據(jù)權(quán)利要求1和6所述噴頭的氣體噴口交叉密排結(jié)構(gòu),其特征在于:
除噴頭邊緣外,每個第二前驅(qū)物(Ⅴ族)單圓孔噴口周圍均有4個等距離、最近鄰的另類前驅(qū)物同心圓形噴口(2個第一前驅(qū)物噴口、2個第三前驅(qū)物噴口);并且,每個第二前驅(qū)物(Ⅴ族)單圓孔噴口周圍均有4個等距離、次近鄰的第二前驅(qū)物(Ⅴ族)單圓孔噴口。
8.上述權(quán)利要求1至7中所述各氣體噴口,其形狀可以是規(guī)則形狀,如圓形、橢圓形、方形、多邊形,也可以是不規(guī)則形狀。
9.上述權(quán)利要求1至7中所述各氣體噴口,其材質(zhì)可依據(jù)前驅(qū)物的化學(xué)特性及外延生長工藝特點,可以是石英材質(zhì),也可以是不銹鋼材質(zhì),還可以是陶瓷材質(zhì)。
10.上述權(quán)利要求1至7中所述各氣體噴口,其排布密度,依據(jù)工藝特點、所用材質(zhì)及機(jī)加工因素,可以在2.0?-?20個/cm2(或12.5?-?125個/?吋2)范圍選擇。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司;北京大學(xué),未經(jīng)東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司;北京大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410029034.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





