[發(fā)明專利]基于聚類分析與遺傳算法的多吸嘴貼片機貼裝工藝優(yōu)化方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410028466.2 | 申請日: | 2014-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN103717007B | 公開(公告)日: | 2017-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高會軍;邱劍彬;王楠;于金泳;王光;寧召柯;姚泊彰 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | H05K3/34 | 分類號: | H05K3/34;G06F17/50;G06N3/12 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所23109 | 代理人: | 楊立超 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 聚類分析 遺傳 算法 多吸嘴貼片機貼裝 工藝 優(yōu)化 方法 | ||
1.基于聚類分析與遺傳算法的多吸嘴貼片機貼裝工藝優(yōu)化方法,其特征為按照如下步驟進行:
步驟一、使用聚類分析算法,將不同種類的元件進行分類;
步驟二、對步驟一中分類的元件集合建立元器件貼裝循環(huán)次數(shù)數(shù)學(xué)模型;
步驟三、根據(jù)步驟二中建立的元器件貼裝循環(huán)次數(shù)數(shù)學(xué)模型,采用遺傳算法得到貼裝順序及供料器位置配置最優(yōu)解;
步驟四:將步驟三得到的貼裝順序及供料器位置配置最優(yōu)解分別提供給貼片機運動控制子系統(tǒng)和供料器分配子系統(tǒng),實現(xiàn)貼裝工藝的優(yōu)化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于聚類分析與遺傳算法的多吸嘴貼片機貼裝工藝優(yōu)化方法,其特征為步驟三根據(jù)步驟二中建立的元器件貼裝循環(huán)次數(shù)數(shù)學(xué)模型,采用遺傳算法得到貼裝順序及供料器位置配置最優(yōu)解的具體過程是:
Ⅰ、不同類別的元件貼片循環(huán)次數(shù)數(shù)學(xué)建模后產(chǎn)生初始種群;
Ⅱ、依次進行適應(yīng)度計算、選擇、交叉、變異、產(chǎn)生新種群并循環(huán)以上五個過程計算
得到每個種類元件的最優(yōu)貼片順序及供料器配置位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基于聚類分析與遺傳算法的多吸嘴貼片機貼裝工藝優(yōu)化方法,其特征為:步驟一中使用聚類分析算法,將不同種類的元件進行分類,得到優(yōu)化貼片數(shù)據(jù)的方法具體步驟如下:
步驟一一:貼片機的貼片數(shù)據(jù)包含即將生產(chǎn)的電路板上所有必要的元件信息:元件在電路板上的位置、元件的類型、元件的規(guī)格,建立一個元件屬性向量表示:
X=[x1,x2,x3,x4]
x1表示元件是否需要上視檢測,取值為0時表示不需要,取值為1時表示需要;x2表示元件的類型,取值為0時表示該元件為電阻,取值為1時表示該元件為電容,取值為2時表示元件為發(fā)光二極管,其它類型依次類推;x3表示元件的值大小,當(dāng)取值為0時表示元件無值大小,如發(fā)光二極管或者運算放大器,當(dāng)取值為10時表示電阻阻值為10K,取值為0.1時表示電容大小為0.1μF;x4表示元件的封裝類型和規(guī)格,取值為0時表示為CHIP_0805,取值為1時表示CHIP_0604,其余依次類推;
步驟一二:根據(jù)步驟一中建立的元件屬性向量,采用聚類算法將元件進行分類處理,將提取的屬性向量與群特性的向量比較,若兩者距離范數(shù)最小則該元素歸屬這一群聚類;
d(xi,Cq)==Θ
i=2to?N
其中m={1,...,N}代表元件的序號,N代表元件的總數(shù);q代表聚類數(shù);Cq代表第q個聚類集合;Θ表示距離的最小值且Θ=0;d(xi,Cq)表示從向量X到聚類Cq的距離;
步驟一三:根據(jù)步驟二可將全部元件分成q類,并給出每個聚類中的元素個數(shù);通過聚類分析算法將貼片數(shù)據(jù)根據(jù)不同的屬性劃分為可數(shù)個類型集合;根據(jù)不同的類型集合按照不同的貼片流程處理。
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