[發明專利]Tm3+單摻三光子紅外量子剪微晶玻璃及其制備方法與應用

無效

• 申請號: 201410027828.6
• 申請日: 2014-01-21
• 公開（公告）號: CN103771714A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 張勤遠;禹德朝;張家鵬;葉柿;張維娟
• 申請（專利權）人: 華南理工大學
• 主分類號: C03C10/16
• 分類號: C03C10/16
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 蔡茂略

1.一種Tm³⁺單摻三光子發射紅外量子剪裁微晶玻璃，其特征在于，該材料以含LaF₃納米晶粒氧氟鍺酸鹽透明微晶玻璃為基質，以Tm³⁺作為激活劑離子，其摩爾比組成為50GeO₂-20Al₂O₃-15LaF₃-15LiF-xTmF₃，0.05≤x≤1.00。

2.根據權利要求1所述的Tm³+單摻三光子發射紅外量子剪裁微晶玻璃，其特征在于，該材料能夠吸收一個藍光光子，通過量子剪裁過程，高效轉換為多個紅外光子發射，其量子效率被計算為1.59-1.61。

3.權利要求1或2所述的Tm³⁺單摻三光子發射紅外量子剪裁微晶玻璃的制備方法，其特征在于，以GeO₂、Al₂O₃、LaF₃、LiF及TmF₃為原料，按名義摩爾組成50GeO₂-20Al₂O₃-15LaF₃-15LiF-xTmF₃，0.05≤x≤1.00，稱取原料配比，采用熔體急冷加后續熱處理的方法，其中含LaF₃納米晶粒透明氧氟鍺酸鹽微晶玻璃是對氧氟鍺酸鹽母體玻璃二次熱處理得到。

4.根據權利要求3所述的Tm³⁺單摻三光子發射紅外量子剪裁微晶玻璃的制備方法，其特征在于，所述熔體急冷加后續熱處理的方法是將配比后的原料置于瑪瑙研缽進行充分混合和均勻研磨；然后移至剛玉坩堝，于1350±20℃熔融1h-1.5h；將熔融后具有流淌性的均勻透明熔體倒入200±5℃預熱的鋼模具中成型，在馬弗爐中于520±5℃保溫1.5h-2.5h后隨爐冷卻，制得母體玻璃(PG)；將母體玻璃在570±1℃熱處理4h-8h，晶化形成透明微晶玻璃(GC)，再進行機械拋光，即得Tm³⁺單摻三光子發射紅外量子剪裁微晶玻璃。

5.權利要求1或2所述Tm³⁺單摻三光子發射紅外量子剪裁微晶玻璃在光電子器件材料的應用。