[發(fā)明專利]閃耀凹面光柵制作裝置及制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410026216.5
• 申請日: 2014-01-20
• 公開（公告）號: CN103744137A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周倩;倪凱;逄錦超;田瑞;許明飛;董昊;張錦超
• 申請（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)深圳研究生院
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G03F7/00
• 代理公司: 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223
• 代理人: 王震宇

1.一種閃耀凹面光柵制作裝置，包括凸面閃耀母光柵，其特征在于,所述凸面閃耀母光柵包括按不同的角度緊密拼合在一起的可分離的多個拼接塊，所述多個拼接塊拼合在一起形成的凸面的曲率半徑與待制作的閃耀凹面光柵的曲率半徑一致。

2.如權(quán)利要求1所述的閃耀凹面光柵制作裝置，其特征在于,所述多個拼接塊的功能面為平面、球面或非球凸面。

3.如權(quán)利要求1或2所述的閃耀凹面光柵制作裝置，其特征在于,各拼接塊的交界面相交于同一個球心。

4.如權(quán)利要求1或2所述的閃耀凹面光柵制作裝置，其特征在于,所述凸面閃耀母光柵包括6個或更多個拼接塊。

5.如權(quán)利要求1或2所述的閃耀凹面光柵制作裝置，其特征在于,還包括將所述多個拼接塊緊密拼合在一起的緊合件，優(yōu)選地，所述緊合件是將所述多個拼接塊緊密容納于其中的卡座或者是將所述多個拼接塊夾持在中間的夾持機(jī)構(gòu)。

6.一種閃耀凹面光柵制作方法，其特征在于,包括以下步驟：

a.準(zhǔn)備可分離的多個拼接塊，所述多個拼接塊拼合在一起形成的凸面的曲率半徑與待制作的閃耀凹面光柵的曲率半徑一致；

b.將所述多個拼接塊緊密拼合在一起；

c.對所述多個拼接塊的功能面進(jìn)行表面處理，形成具有閃耀光柵槽型的凸面閃耀母光柵；

d.通過光柵復(fù)制工藝將所述閃耀光柵槽型復(fù)制到凹面光柵基底上；

e.復(fù)制完畢后，將所述多個拼接塊分別取下，獲得所需要的凹面閃耀光柵；

其中步驟c在步驟a中進(jìn)行或步驟b后進(jìn)行。

7.如權(quán)利要求6所述的閃耀凹面光柵制作方法，其特征在于,所述多個拼接塊的功能面為平面、球面或非球面。

8.如權(quán)利要求6所述的閃耀凹面光柵制作方法，其特征在于,步驟b～步驟d中,通過卡座或夾持機(jī)構(gòu)將所述多個拼接塊緊密拼合在一起。

9.如權(quán)利要求8所述的閃耀凹面光柵制作方法，其特征在于,步驟e中，先松開凸面閃耀光柵上的卡座或夾持機(jī)構(gòu)，再將各拼接塊貼著旁邊的拼接塊取下。

10.如權(quán)利要求6至9任一項所述的閃耀凹面光柵制作方法，其特征在于,步驟c包括以下步驟：

在所述多個拼接塊的功能面上旋涂感光材料；

采用曝光法得到凸面光刻膠掩膜光柵；

對所述凸面光刻膠掩膜光柵進(jìn)行顯影，得到光刻膠母光柵；

對顯影后的所述光刻膠母光柵進(jìn)行離子束刻蝕，得到所述凸面閃耀母光柵。