[發明專利]電子設備外殼用裝置有效
| 申請號: | 201410025756.1 | 申請日: | 2014-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN103945662B | 公開(公告)日: | 2017-03-01 |
| 發明(設計)人: | 陳科君 | 申請(專利權)人: | 華宏新技股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K5/00 | 分類號: | H05K5/00;H05K5/02 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 聞卿 |
| 地址: | 中國臺灣高雄*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子設備 外殼 裝置 | ||
1.一種設備,其包含:
a.用于電子裝置的外殼,其包含
i.底壁,其具有內表面、外表面及至少一個邊緣;及
ii.一個或一個以上側壁,所述側壁各自具有內表面、外表面及至少一個邊緣;所述側壁的所述邊緣聯接所述底壁的所述邊緣;及
b.一個或一個以上天線在所述兩個或兩個以上壁中,所述天線的一部分從所述一個壁中連續地延伸到所述另一個壁中。
2.根據權利要求1所述的設備,其特征在于,所述一個或一個以上側壁相對于所述底壁為實質上垂直的。
3.根據權利要求2所述的設備,其特征在于,所述一個或一個以上側壁相對于所述底壁以約90度或更高的角度定位。
4.根據權利要求1所述的設備,其特征在于,所述底壁與所述側壁是通過曲壁連接。
5.根據權利要求1所述的設備,其進一步包含保護層,所述保護層附接到所述底壁的所述外表面的至少一部分或所述側壁的所述外表面的至少一部分。
6.根據權利要求1所述的設備,其特征在于,所述天線為銅。
7.一種設備,其包含:
a.金屬層,其具有頂表面、底表面及至少一個側壁;
b.電介質層,其具有頂表面、底表面及至少一個側壁,所述電介質層的所述底表面的至少一部分聯接所述金屬層的所述頂表面的至少一部分;
c.遮蔽層,其具有頂表面、底表面及至少一個側壁,所述遮蔽層的所述底表面的至少一部分聯接所述電介質層的所述頂表面的至少一部分;所述遮蔽層進一步包含一個或一個以上通道,所述一個或一個以上通道沿所述遮蔽層的所述頂表面的至少一部分及所述遮蔽層的所述側壁的至少一部分連續地延伸,其中所述一個或一個以上通道在其中含有天線,所述天線從所述遮蔽層的所述頂表面中的所述通道的至少一部分延伸到所述側壁中的所述通道的至少一部分。
8.根據權利要求7所述的設備,其進一步包含保護層,所述保護層附接到所述底表面的至少一部分或所述金屬層的所述側壁的一部分。
9.根據權利要求7所述的設備,其進一步包含保護層,所述保護層附接到所述遮蔽層的至少一部分頂表面及所述遮蔽層的一部分側壁。
10.根據權利要求7所述的設備,其特征在于,所述層的所述表面為實質上平坦的。
11.根據權利要求10所述的設備,其特征在于,所述實質上平坦的表面實質上垂直于所述側壁。
12.根據權利要求10所述的設備,其特征在于,所述實質上平坦的表面是相對于所述側壁以至少90度的角度定位。
13.根據權利要求10所述的設備,其特征在于,所述實質上平坦的表面通過曲壁連接到所述側壁。
14.根據權利要求7所述的設備,其特征在于,所述天線為銅。
15.根據權利要求7所述的設備,其特征在于,所述金屬層是選自鋁、銅、不銹鋼、鎂合金、鈦合金及其組合。
16.根據權利要求7所述的設備,其特征在于,所述電介質層是選自環氧樹脂、熱填料、聚酰亞胺、聚合物、液晶聚合物及其組合。
17.根據權利要求7所述的設備,其特征在于,所述遮蔽層為墨水或干膜。
18.根據權利要求7所述的設備,其特征在于,所述天線的至少一部分電鍍有抗氧化層。
19.根據權利要求7所述的設備,其特征在于,所述天線的一部分涂有所述遮蔽層。
20.一種電子裝置,其包含
一種電子裝置的外殼,其包含
a.底壁,其具有內表面、外表面及至少一個邊緣;及
b.一個或一個以上側壁,所述側壁各自具有內表面、外表面及至少一個邊緣;所述側壁的所述邊緣聯接所述底壁的所述邊緣;及
c.一個或一個以上天線在所述兩個或兩個以上壁中,所述天線的一部分從所述一個壁中連續地延伸到所述另一個壁中。
21.一種電子裝置,其包含
一種設備,其包含
a.金屬層,其具有頂表面、底表面及至少一個側壁;
b.電介質層,其具有頂表面、底表面及至少一個側壁,所述電介質層的所述底表面的至少一部分聯接所述金屬層的所述頂表面的至少一部分;
c.遮蔽層,其具有頂表面、底表面及至少一個側壁,所述遮蔽層的所述底表面的至少一部分聯接所述電介質層的所述頂表面的至少一部分;所述遮蔽層進一步包含一個或一個以上通道,所述一個或一個以上通道沿所述遮蔽層的所述頂表面的至少一部分及所述遮蔽層的所述側壁的至少一部分連續地延伸,其中所述一個或一個以上通道在其中含有天線,所述天線從所述遮蔽層的所述頂表面中的所述通道的至少一部分延伸到所述側壁中的所述通道的至少一部分。
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