[發明專利]臭氧水水箱

無效

• 申請號: 201410025743.4
• 申請日: 2014-01-21
• 公開（公告）號: CN103771027A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 林志明;黃耀樂
• 申請（專利權）人: 上海和輝光電有限公司
• 主分類號: B65D81/20
• 分類號: B65D81/20
• 代理公司: 上海唯源專利代理有限公司 31229
• 代理人: 曾耀先

技術領域

本發明涉及一種半導體加工設備，尤其是一種臭氧水水箱。

背景技術

半導體器件的制作過程中包括蝕刻、氧化、沉積、去光阻等步驟。這些步驟都是造成基板表面污染的來源，基板表面的污染會嚴重影響半導體器件的良率，因此半導體器件的制造過程中必須經過反復多次清洗過程。業界廣泛使用的濕式清洗技術主要依靠酸或者堿溶液來去除有機污染物、氧化膜和金屬污染物等污染源。這些清洗方法雖然高效，但是這些清洗程序會消耗大量水資源并且產生大量強酸強堿溶液，這些廢液無法直接排放，處理之后依然會造成嚴重的污染。于此相對，臭氧水不僅具有良好的清潔效果，并且臭氧水的廢液中包含的臭氧可以降解為氧氣，所以臭氧水是半導體器件制作過程中理想的清洗劑。

但是在純凈水中臭氧的半衰期只有數十分鐘，所以臭氧溶液的儲存技術是臭氧清洗溶液大規模應用的一大瓶頸。在半導體器件生產過程中臭氧水的濃度直接影響產品的電性能。不同于傳統工業所需的低濃度臭氧(1ppm以內至數個ppm)，半導體和光電清洗步驟需要長時間穩定供應中高濃度臭氧水(數十ppm范圍內)，這種濃度等級的臭氧水多是采用高濃度臭氧水發生器進行生產，但是高濃度臭氧水發生器產出的臭氧水中臭氧的濃度極不穩定，這嚴重影響產品的一致性。

發明內容

本發明在于提供一種臭氧水水箱，對高濃度臭氧水生成器產生的臭氧水進行暫時存儲，該臭氧水水箱可以有效解決臭氧水濃度波動過大的問題。

本發明的技術方案包括一種臭氧水水箱，其包括：一密閉容器；所述密閉容器開設有一臭氧水進水口和一臭氧水出水口，所述進水口和臭氧水發生裝置連通；所述密閉容器還包括一進氣口，所述進氣口連接于一高壓氣源；所述密閉容器上設置有一泄壓閥。高壓氣源的設置可以增加臭氧在水中的溶解度，并且向機臺供應臭氧水的過程中可以通過調整高壓氣源的氣壓調整臭氧水的供應速度；并且該密封容器可以對輸入的臭氧水的濃度波動起到緩沖的作用，防止供應到機臺的臭氧水濃度波動過大。

本發明臭氧水水箱進一步改進在于：所述密閉容器包括第一殼體和第二殼體，所述第一殼體位于所述密閉容器的最外層，所述第二殼體內部設置在第一殼體內部，所述第二殼體和第一殼體之間為水箱夾層，所述第二殼體的頂部設置有通孔，所述第二殼體通過所述通孔和所述水箱夾層連通。

本發明臭氧水水箱進一步改進在于：所述第二殼體包括一進水水管，所述進水水管連通所述臭氧水進水口和所述第二殼體，所述第二殼體還包括一出水水管，所述出水水管連通所述臭氧水出水口和所述第二殼體。

本發明臭氧水水箱進一步改進在于：所述密閉容器內部設置有檢測臭氧水液位的液位傳感器、檢測臭氧水中臭氧濃度的臭氧濃度傳感器以及檢測密閉容器內部氣壓的壓力傳感器。所述傳感器結合控制單元可以精確的控制臭氧水水箱中的液位，壓強以及臭氧濃度。

本發明臭氧水水箱進一步改進在于：所述高壓氣源向所述密閉容器內部充氣，所述臭氧水水箱內部的壓強保持在0.12Mp至0.26Mp。

本發明臭氧水水箱進一步改進在于：所述泄壓閥在所述密閉容器內部壓強大于給定值時開啟。

本發明臭氧水水箱進一步改進在于：所述泄壓閥在所述臭氧水發生裝置向所述密閉容器內注入臭氧水時開啟。

本發明臭氧水水箱進一步改進在于：所述高壓氣源向所述密閉容器內注入的高壓氣體為氧氣、二氧化碳、氮氣的混合物。

本發明臭氧水水箱進一步改進在于：所述第二殼體中充滿所述高壓氣源提供的高壓氣體。

附圖說明

圖1為型本發明臭氧水水箱的截面圖。

其中附圖標記說明如下：

10：密閉容器；????11：第一殼體；

12：第二殼體；????13：臭氧水進水口；

14：臭氧水出水口；??????15：進水水管；

16：出水水管；??????????17：進氣口；

18：泄壓閥；????????????19：水箱夾層；

20：壓力傳感器；????????21：液位傳感器；

22：臭氧濃度傳感器；

具體實施方式