[發明專利]高對比度的啁啾脈沖放大裝置有效
| 申請號: | 201410025427.7 | 申請日: | 2014-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN103926779B | 公開(公告)日: | 2017-04-05 |
| 發明(設計)人: | 陸效明;冷雨欣;劉彥祺;許毅 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號: | G02F1/39 | 分類號: | G02F1/39;G02F1/35;H01S3/10 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司31213 | 代理人: | 張澤純 |
| 地址: | 201800 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 對比度 啁啾 脈沖 放大 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及超短激光技術領域,特別是一種高對比度的啁啾脈沖放大裝置。
背景技術
高功率超短激光脈沖在材料加工、醫學治療、物理化學生物科學實驗等領域有廣泛的應用,這些應用大多基于激光的高峰值功率密度。目前獲得高峰值功率最主要的技術途徑是應用啁啾脈沖放大技術(CPA,chirped-pulse?amplification)將超短脈沖(幾十fs~百fs量級)先在時間上展寬至百ps~ns量級,再通過放大器放大能量,最后在時間上壓縮重新得到超短脈沖。在CPA放大過程中會出現自發輻射,這種自發輻射再經后續的放大形成自發輻射放大(ASE,amplified?spontaneous?emission),另外在放大過程由于光學元件表面反射,前后沿出現預脈沖和后脈沖,在通常的CPA激光系統中脈沖對比度(定義為)通常為106~8左右。通常,超短脈沖與物質相互作用時,主脈沖激光的聚焦強度可以達到1018W/cm2甚至更高,這樣,主脈沖前的預脈沖和ASE功率密度就達到1010~12W/cm2,一般物質在激光功率密度達到1011/cm2時就會在幾十ps時間內產生等離子體,而等離子體會阻止主脈沖與物質相互作用。
一般,在CPA放大過程中,由于振蕩器產生的鎖模脈沖能量較小(~nJ量級),對比度較低(108~9),而展寬后的種子脈沖和放大過程中產生的ASE在時間上重疊,光譜上又是一致的,因此在主脈沖的脈寬范圍內的ASE和預脈沖很難抑制,導致最后壓縮脈沖對比度惡化。目前,關于提高脈沖對比度的應用主要基于雙啁啾脈沖放大技術(DCPA)[參見在先技術1:“Double?chirped-pulse-amplification?laser:a?way?to?clean?pulses?temporally”,M.P.Kalashnikov,E.Risse,and?W.Sandner,Opt.Lett.30,923(2005)]結合利用交叉偏振波技術(XPW,cross-Polarized?wave?generization)[參見在先技術2:“10^-10temporal?contrast?for?femtosecond?ultraintense?lasers?by?cross-polarized?wave?generation”,A.Jullien,O.Albert,F.Burgy,G.Hamoniaux,J.-P.Rousseau,J.-P.Chambaret,F.Auge-Rocherau,G.Cheriaux,J.Etchepare,N.Minkovski,and?S.Saltiel,Opt.Lett.30,920(2005)],或者光參量放大技術(OPA,optical-parametric?amplification)[參見在先技術3:“High-contrast?optical–parametric?amplifier?as?a?front?end?of?high-power?laser?systems”,C.Dorrer,I.A.Begishev,A.V.Okishev,and?J.D.Zuegel,Opt.Lett.32,2143(2007)]產生高對比度高能量的種子脈沖。這種方法由于種子光是高能量的(~10μJ量級),因此抑制了放大過程中的ASE,而本身又具有高對比度,因而大大提高放大脈沖的對比度。通過這種結合多種技術的方法可以將脈沖對比度提高至1010以上,滿足應用的需要。
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