[發(fā)明專利]磁場測量裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410024912.2 | 申請日: | 2014-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN103941199A | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 長坂公夫 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G01R33/032 | 分類號: | G01R33/032;G01R33/022 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 李逸雪 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁場 測量 裝置 | ||
1.一種磁場測量裝置,其特征在于,具有:
探測光照射部,其照射探測光;
第1介質(zhì),其被配置在所述探測光的光軸上,對于所述探測光在第1軸以及第2軸上示出線性二色性;
第2介質(zhì),其在所述探測光的光軸上相對于所述第1介質(zhì)被配置在所述照射部的相反側(cè),且對于所述探測光在與所述第1軸以及所述第2軸不同的第3軸以及第4軸上示出線性二色性;和
測量部,其基于透過了所述第1介質(zhì)以及所述第2介質(zhì)的所述探測光的偏振面的變化量,對所述第1介質(zhì)中的磁場與所述第2介質(zhì)中的磁場之差進行測量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量裝置,其特征在于,具有:
第1照射部,其向所述第1介質(zhì)照射第1泵浦光;和
第2照射部,其向所述第2介質(zhì)照射第2泵浦光,
所述第1介質(zhì),在內(nèi)部包含通過所述第1泵浦光而被激發(fā)的多個原子所組成的原子組,
所述第2介質(zhì),在內(nèi)部包含通過所述第2泵浦光而被激發(fā)的多個原子所組成的原子組。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁場測量裝置,其特征在于,
所述第1照射部,向與所述第2照射部照射所述第2泵浦光的方向不平行的方向,照射所述第1泵浦光。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量裝置,其特征在于,具有:
分束器,其被配置在被所述第1介質(zhì)和所述第2介質(zhì)夾著的位置,對被照射的光進行分離,生成向該第1介質(zhì)傳播的第1泵浦光,并且生成向該第2介質(zhì)傳播的第2泵浦光;和
第3照射部,其朝向所述分束器照射所述光,
所述第1介質(zhì),在內(nèi)部包含通過所述第1泵浦光而被激發(fā)的多個原子所組成的原子組,
所述第2介質(zhì),在內(nèi)部包含通過所述第2泵浦光而被激發(fā)的多個原子所組成的原子組。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量裝置,其特征在于,具有:
多個分束器,分別被配置在被所述第1介質(zhì)和所述第2介質(zhì)夾著的位置,對被照射的光進行分離,生成向該第1介質(zhì)傳播的第1泵浦光,并且生成向該2介質(zhì)傳播的第2泵浦光;
多個第3照射部,與所述多個分束器的每一個建立對應,朝向?qū)乃龇质髡丈渌龉猓缓?/p>
調(diào)制部,其使各所述第3照射部照射的各光的強度進行調(diào)制,
所述第1介質(zhì),在內(nèi)部具有通過所述第1泵浦光而被激發(fā)的多個原子所組成的原子組,
所述第2介質(zhì),在內(nèi)部具有通過所述第2泵浦光而被激發(fā)的多個原子所組成的原子組,
所述各分束器生成的各所述第1泵浦光,具有預先規(guī)定的相位差,
所述各分束器生成的各所述第2泵浦光,具有所述相位差,
所述調(diào)制部,以與所述相位差相應的頻率使所述各光的強度進行調(diào)制。
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