[發明專利]光學位移測量系統

有效

• 申請號: 201410024145.5
• 申請日: 2014-01-20
• 公開（公告）號: CN103791844A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 伍劍;袁波
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 韓介梅

1.光學位移測量系統，其特征是包括光源（1）、準直系統（2）、用于標度尺的光柵（3）、分光系統（4）、奇數反射系統（5）、偶數反射系統（6）、合光系統（7）、光電探測器（8）和信號處理系統（9）；光源（1）發出的光經準直系統（2）準直為平行光照明用于標度尺的光柵（3），該光柵（3）的圖像經分光系統（4）分成兩束，一束入射到奇數反射系統（5），另一束入射到偶數反射系統（6）或直接進入合光系統7，奇數反射系統（5）的入射光經反射進入合光系統（7），偶數反射系統（6）的入射光經反射進入合光系統（7），合光系統（7）將來自奇數反射系統（5）的光束和來自偶數反射系統（6）或直接進入合光系統（7）的光束重疊形成莫爾條紋，莫爾條紋經光電探測器（8）轉換為電信號輸入到對輸入信號進行位移量分析的信號處理系統（9）。

2.按照權利要求1所述的光學位移測量系統，其特征是所述的光源（1）是點光源或激光光源。

3.按照權利要求1所述的光學位移測量系統，其特征是所述的用于標度尺的光柵（3）是透射式光柵或反射式光柵。

4.按照權利要求1所述的光學位移測量系統，其特征是所述的分光系統（4）是半反半透鏡。

5.按照權利要求1所述的光學位移測量系統，其特征是所述的奇數反射系統（5）是反射棱鏡、反射鏡或半反半透鏡。

6.按照權利要求1所述的光學位移測量系統，其特征是所述的偶數反射系統（6）是反射棱鏡、反射鏡或半反半透鏡。

7.按照權利要求1所述的光學位移測量系統，其特征是所述的合光系統（7）是半反半透鏡。

8.按照權利要求1所述的光學位移測量系統，其特征是所述的光電探測器（8）是面陣探測器或線陣探測器或單點探測頭。