[發(fā)明專利]一種硅量子點(diǎn)晶體的生長方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410024142.1 | 申請(qǐng)日: | 2014-01-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103762284A | 公開(公告)日: | 2014-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郝洪辰;陳家榮;陸明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 復(fù)旦大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L33/00 | 分類號(hào): | H01L33/00;H01L33/06 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 量子 晶體 生長 方法 | ||
1.?一種硅量子點(diǎn)晶體的生長方法,其特征在于,具體步驟如下:?
(1)選取揮發(fā)性較好的溶劑作為硅量子點(diǎn)的分散劑,把硅量子點(diǎn)分散在易于揮發(fā)的溶劑中,預(yù)制得硅量子點(diǎn)溶液;硅量子點(diǎn)溶液濃度為:1.0-2.5mg/L;
(2)用低濃度氫氟酸,丙酮,酒精,超聲清洗沉積晶體用的襯底和離心沉積管,利用氮?dú)獯蹈桑?/p>
(3)把襯底置于離心沉積管底部,用移液器將硅量子點(diǎn)溶液轉(zhuǎn)移到離心沉積管內(nèi);將離心沉積管置于高速離心機(jī)中;
(4)在溶液揮發(fā)沉積的同時(shí),高速離心機(jī)以4000-8000轉(zhuǎn)/分的轉(zhuǎn)速高速離心,輔助沉積。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅量子點(diǎn)晶體的生長方法,其特征在于,所述分散劑為甲醇、乙醇或者均三甲苯,或者甲醇、乙醇或者均三甲苯與水的混合物。
3.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅量子點(diǎn)晶體的生長方法,其特征在于,根據(jù)選用的分散劑的揮發(fā)速率,計(jì)算確定離心時(shí)間。
4.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅量子點(diǎn)晶體的生長方法,其特征在于,所述離心沉積管的材料為石英或者塑料,該離心管沉積設(shè)計(jì)為平底,且底面與豎直管壁的夾角等于高速離心機(jī)的角轉(zhuǎn)子與水平面的夾角的余角。
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